판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 #9315487

NOVELLUS CONCEPT 2 원자로는 고밀도 플라즈마를 사용하여 정확한 에칭 기능을 제공하도록 설계된 환경 친화적 인 Reactive Ion Etching 장비입니다. 반응물 의 "가스 '는 가열 되어" 플라즈마' 를 구성 하는 "가스 '를 이온화 시켜" 가스' 를 금속 표면 으로 가속 시킨다. 반응물 "이온 '이 금속 에 부딪히면, 개별" 이온' 의 "에너지 '가 표면 에서 금속 원자 를 제거 하는 데 소비 된다. 또한, 이를 통해 에치 (etch) 프로세스를 고도로 제어하여 균일 한 기판을 만들 수 있습니다. 이것이 CONCEPT 2 솔루션에서 수행하는 접근 방식입니다. NOVELLUS CONCEPT 2 시스템을 사용하면 생산성을 높이고, 런타임을 연장하며, 프로세스 제어를 향상시킬 수 있습니다. 초박막 (ultra-thin film) 에서 더 두꺼운 구조에 이르기까지 모든 두께의 레이어를 처리 할 수 있습니다. 유량을 미세하게 조정하여 필요한 에칭 된 구조를 만들 수 있습니다. 이 장치에는 환경 보호, 운영 중 최고 수준의 청결 (cleaness) 을 보장하도록 설계된 여러 기능이 포함되어 있습니다. 여기에는 공기 재활용 기계 (air recycling machine) 가 포함되어 있어 입자를 걸러 낼 수 있으며, 피드 포인트의 두 번째 벽 (second wall) 은 반응물이 외부 환경으로 유출되는 것을 방지하고, 생산 영역에서 멀리 떨어진 반응을 지시하는 전용 배기선이 포함됩니다. CONCEPT 2 도구는 다른 RIE 시스템에 비해 최대 30% 적은 처리 단계를 제공하여 매우 효율적이도록 설계되었습니다. 전원 공급 장치 (Power Supply) 와 컨트롤러 (Controller) 를 포함한 전체 자산은 애플리케이션의 크기에 따라 사용자가 필요에 따라 설정을 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 사용자에게 이상적인 결과를 얻기 위해 전원 설정을 조정할 수 있는 '현재 조정 (Current Tuning)' 기능도 옵션으로 제공됩니다. 이 기능은 시간을 절약하고 장비 성능을 향상시킬 수 있는 유용한 기능입니다. NOVELLUS CONCEPT 2에는 모든 제어 기능이 제공됩니다. 이를 통해 사용자는 etch 속도, 온도, 가스 흐름, 압력 등의 프로세스 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 시스템을 원격으로 모니터링 및 조정할 수 있습니다. 따라서 원하는 etch 결과를 일관성 있게 달성할 수 있습니다. 전반적으로, CONCEPT 2는 정확하고 고급 제어 기능을 제공하는 고가용성 에칭 장치입니다. 처리 단계를 크게 줄이고 강력한 안전 프로토콜을 통해 NOVELLUS CONCEPT 2 (NOVELLUS CONCEPT 2) 는 박막 에칭에서 고급 장치 제작에 이르기까지 다양한 애플리케이션에 적합합니다.