판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 #9251351

NOVELLUS CONCEPT 2는 반도체 제조를 위해 설계된 화학 기계 평면 화 (CMP) 원자로입니다. 다른 CMP 시스템에 비해 향상된 성능과 생산성을 제공하는 고급 툴입니다. 반도체 웨이퍼 (wafer) 에 고도로 균일하고 평면 화 된 표면을 생성하여 최종 제품의 적절한 전기 연결 (electrical connection) 을 보장하는 데 사용됩니다. CONCEPT 2 원자로는 회전 패드 헤드 (rotating pad head) 를 사용하여 웨이퍼와 연마 패드 사이에 일관된 수준의 접촉을 만듭니다. 이를 통해 웨이퍼 표면을 더 균일 하게 연마 할 수 있습니다. 원자로는 또한 개선 된 물 전달 장비를 갖추고 있으며, 이는 연마 과정의 균일성을 더욱 증가시킵니다. 물 전달 시스템은 평면 화율을 최대 40% 증가시키고 응용 프로그램에 따라 조정 할 수 있습니다. 또한, 새로운 원자로는 소음 수준이 크게 감소하고, 보다 효율적인 열 관리 장치 (thermal management unit) 를 가지고 있어 구성 요소 수명을 연장합니다. NOVELLUS CONCEPT 2 원자로는 기울기 수정, 다양한 압력 제어, 고급 피드백 규제와 같은 다양한 정교한 기능을 사용하여 표면 균일성을 향상시키고 소유 비용을 절감합니다. 기울기 보정 기능 (tilt correction feature) 은 웨이퍼의 기본 압력이 연마 과정 내내 일관되게 유지됩니다. 압력 조절 "시스템 '은" 웨이퍼' 에 가해지는 압력 의 양 을 정확 히 제어 할 수 있게 해 준다. 이 매개 변수는 열점 생성, 웨이퍼 손상 감소, 연마 결과 개선 등을 피하기 위해 조정할 수 있습니다. 고급 피드백 규정 시스템 (Advanced feedback regulation machine) 은 프로세스 매개변수를 모니터링하여 연마 프로세스를 실시간으로 최적화할 수 있습니다. 고급 기술 CONCEPT 2 원자로 제공 외에도, 다른 CMP 원자로보다 더 효율적입니다. 향상된 열 관리 도구, 고급 노즐 설계, 최적화된 프로세스 제어 (process control) 를 통해 제품 온도를 줄이고 재료 손실을 줄일 수 있습니다. 이렇게 하면 주기 시간이 빨라지고 수율이 높아집니다. NOVELLUS CONCEPT 2 원자로는 또한 뛰어난 사용자 제어 및 진단 기능을 제공합니다. 원자로 (Reactor) 는 고급 공정 제어 (Process Control) 및 생산 관리 시스템 (Production Management System) 과 호환되며, 사용자가 원자로 작동을 면밀히 모니터링하고 발생할 수 있는 문제를 해결할 수 있습니다. 전반적으로 CONCEP2 CMP 원자로는 향상된 성능, 향상된 효율성 및 향상된 사용자 제어 기능을 제공합니다. 이 원자로에 통합된 첨단 기술들은 반도체 생산의 복잡한 요구사항을 충족시키기 위한 완벽한 선택이라 할 수 있다. & # 160; & # 160; & # 160;