판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 #9235678

NOVELLUS CONCEPT 2는 반도체 산업에서 사용되는 화학 증기 증착 (CVD) 용 원자로입니다. 단일 웨이퍼, 배치 프로세스, 다중 챔버 CVD 원자로로, 빠른 프로세스 개발, 프로세스 검증 및 높은 처리량 산출이 가능하도록 설계되었습니다. CONCEPT 2는 독특한 멀티 챔버 아키텍처 (multichamber architecture) 와 광범위한 챔버 호환 프로세스 가스로 인해 증착 프로세스에 유연성과 선택성을 제공합니다. NOVELLUS CONCEPT 2는 반 밀폐 된 2 구역 디자인입니다. 메인 챔버는 하단 챔버와 상단 챔버로 구성됩니다. 상단 챔버는 CVD 프로세스가 진행되는 주요 공정 챔버입니다. 2 개의 가스 라우터 (gas router) 에 의해 상단 챔버 (top chamber) 에 다양한 등각 공정 가스를 도입 할 수 있으며, 약실 내 화학 성분의 극히 정밀한 제어를 가능하게하고 증착 과정에서 웨이퍼의 온도를 조정할 수있다. 바닥 의 약실 은 수분 교환 "가스 '로 채워져 있는데, 이" 가스' 는 산화 및 입자 축적 을 막기 위해 약실 을 역전하 시키도록 설계 되었다. CONCEPT 2에는 다양한 로봇 기능이 장착되어 있습니다. "로봇 '암 은 기판" 웨이퍼' 를 한 방 에서 다음 방 으로 이동 시키고, 그것 을 상공 "챔버 '에 도입 시키고, 다른 성분 들 인" 가스' 선, "라이너 파이프 ', 난방기, 방패 등 을 도입 하여 이동 시키도록 설계 되었다. 이 로봇은 또한 비대칭적인 움직임을 모방 할 수 있도록 설계되어 화학적 플럭스 (fluxes) 와 공정 (process) 에 대한 유연성이 향상되었습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 원자로에는 고급 프로세스 제어 시스템 (APC) 이 장착되어 있습니다. APC 는 "웨이퍼 '," 로봇' 암 및 공정 "가스 '의 정확 한 이동 을 하도록" 프로그램' 될 수 있다. APC는 또한 원자로 및 공정 가스 (예: 온도, 플라즈마 압력, 유속) 의 조건을 모니터링합니다. 이 컨트롤을 사용하면 CVD 프로세스의 속도와 품질을 향상시켜 프로세스 매개변수 (process parameters) 의 정확도를 높일 수 있습니다. 결론적으로, CONCEP2 원자로는 독특한 장비로, 화학 증발 공정의 온도, 속도, 정확성을 제어 할 수 있도록 설계되었습니다. 2 영역 설계 및 고급 프로세스 제어 시스템을 통해 신속한 프로세스 개발, 프로세스 검증, 높은 처리량 생산이 가능합니다.