판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 #9186060
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ID: 9186060
웨이퍼 크기: 8"
CVD System, 8"
Sequel chamber
Modified reduced foot print frame
Missing parts:
Meter, DC, press, digital, leak back
Switch / Gauge photohelic
Gas lines plumbing (ALL)
MFC Cable (ALL)
Gas box cabling (ALL)
Numerous system cable (99% Gone)
Lower lift / Rotate assembly (Spindle)
Top plate: Except (4) panels
Intact items or present items:
Vacuum general adapter AC-2
EUROTHERM Heater controller
Heater feed through
RF Isolated TC (Filter)
Valve, throttle, vacuum control
Valve, gate, high vacuum
Upper spindle assembly
Heater block
(5) Shower heads
Fork plate / Ceramic forks
MYKROLIS MFC Gas panel (No plumbing)
Top plate: Lift assembly
Local power box (LPB)
Mega pac: MP5-95532
IOC 27-10318-00 Rev B
Shunt cap (For tune)
Temporary / Pressure control box.
NOVELLUS CONCEPT 2는 반도체 산업의 까다로운 요구를 충족시키기 위해 설계된 단일 웨이퍼 배치 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 콘셉트 2 (CONCEP2) 원자로는 더 높은 수율과 더 낮은 제품 비용을 달성하기 위해 더 빠른 처리속도에서 고급 (advanced) 프로세스를 수행할 수 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 원자로는 Ti/TiN, SiOC 및 BCB와 같은 텅스텐 및 실리콘 기반 필름을 포함한 증착 공정을 위해 설계되었습니다. 원자로는 수익률을 손상시키지 않고 뛰어난 성능을 제공합니다. 프로세스 챔버 (chamber) 조건을 보다 효율적으로 제어하도록 설계된 강력한 전자 동적 헤드 (electro-dynamic head) 를 갖춘 독특한 설계 구성이 특징입니다. 통일성이 향상되고 전기 자기 간섭이 감소하기 위해 여러 개의 내부 전극이 장착되어 있습니다. CONCEPT 2 원자로는 또한 전송 로봇을 사용하여 다른 증착 도구에 쉽게 연결할 수 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2는 직경 6 인치 또는 직경 8 인치로 제공되며 단일 웨이퍼, 배치, 다중 영역 및 다중 챔버 처리를 포함한 다양한 프로세스 옵션을 제공합니다. 정밀한 프로세스 제어 및 안정성을 위해 실시간, 다중 세그먼트 온도 제어 시스템을 사용합니다. 시스템은 최적의 작동을 위해 직렬 고성능 임베디드 프로세서로 구동됩니다. CONCEPT 2는 M4 인젝터로 지속적인 세라믹 가스 분사 전달 및 주문형 복용을 모두 지원합니다. 또한 냉각장치 (coolair peripheral system) 는 흡입 및 배기 밸브에 부착하여 원치 않는 열 하중을 줄이고 깨끗하고 먼지가 없는 공정 환경을 제공합니다. NOVELLUS CONCEPT 2는 강력하고 직관적인 소프트웨어를 사용하여 신규 또는 기존 시스템에 쉽게 통합 할 수 있습니다. 프로세스 이득 (process gain) 과 매개변수 (parameter) 는 쉽게 설정 및 모니터링되며, 실시간 프로세스 데이터를 사용하여 잠재적 문제를 감지하고 수율을 최대화할 수 있습니다. 전반적으로 CONCEPT 2는 고급 프로세스에 효율적인 고성능 CVD 원자로입니다. 탁월한 정확성과 성능, 그리고 직관적인 소프트웨어 (software) 와 고급 프로세스 제어 (process control) 를 통해 설계되었으며, 높은 수익률을 달성하고, 제품 비용을 절감하는 데 매우 적합합니다.
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