판매용 중고 NOVELLUS Concept 2 Triple Speed #9203792

NOVELLUS Concept 2 Triple Speed
ID: 9203792
웨이퍼 크기: 8"
HDP CVD Systems, 8" (3) Chambers.
NOVELLUS Concept 2 Triple Speed Reactor는 반도체 산업의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계된 첨단 에치 및 증착 장비입니다. 프로세스 다용도 (process versility) 와 빠른 주기 (fast cycle) 의 고유한 조합을 제공하여 낮은 소유 비용으로 고품질 결과를 얻을 수 있습니다. 컨셉 2 트리플 스피드 (Concept 2 Triple Speed) 는 통합 플라즈마 기술을 사용하여 단일 플랫폼에서 에칭과 증착을 모두 처리 할 수 있습니다. 이것은 시스템에 금속, 산화물, 중합체 등 다양한 물질을 처리 할 수있는 기능을 제공합니다. 에치 속도가 높고 결함이 낮으며, 화면 비율이 우수하며, 단계 범위가 우수합니다. 이 장치에는 평면 (Planar), 플랫 (Flat) 및 심도 (Deep) 의 세 가지 기본 모드가 있으며 최대 종횡비는 딥 모드에서 최대 20: 1로 달성 할 수 있습니다. 이를 통해 얕은 트렌치 격리 (STI) 에서 고급 상호 연결 구조에 이르기까지 다양한 프로세스 재료 및 응용 프로그램이 가능합니다. NOVELLUS Concept 2 Triple Speed (NOVELLUS Concept 2 Triple Speed) 는 쉽고 효율적인 작동을 위해 설계되었으며, 이를 통해 설치 시간이 단축되고 유지 보수가 가능합니다. 또한 더 빠른 웨이퍼 전송 시간 (wafer transfer time) 을 허용하여 주기를 줄이고 처리량을 향상시킬 수 있습니다. 이 기계는 또한 프로세스 안정성을 향상시키는 여러 가지 기능을 가지고 있습니다. 여기에는 2 개의 가스 채널, 모바일 미디어 소스 및 개선 된 가스 전달 도구가 포함됩니다. 이를 통해 자산은 더 깨끗하고 일관된 프로세스 결과를 제공 할 수 있습니다. 이 모델은 또한 프로세스 기능과 처리량을 극대화할 수 있는 다양한 옵션을 갖춘 고도로 유연한 아키텍처 (architecture) 를 갖추고 있습니다. 여기에는 통합 프로세스 엔진, 확장 챔버 구성 및 자동 클리닝 솔루션이 포함됩니다. 마지막으로, 컨셉 2 트리플 스피드 (Concept 2 Triple Speed) 는 다른 시스템보다 적은 에너지를 사용하도록 설계되어 운영 효율성을 높이고 비용을 절감합니다. 전반적으로 NOVELLUS Concept 2 Triple Speed 원자로는 반도체 산업을위한 강력한 솔루션입니다. 이 제품은 고성능, 다용도, 비용 효율성을 제공하므로 광범위한 애플리케이션을 위한 완벽한 선택입니다.
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