판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #293600182
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NOVELLUS CONCEPT 2 Speed는 반도체 제조 산업에 사용하도록 설계된 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 뛰어난 처리율, 높은 균일성, 향상된 수율로 고성능 산화물 필름을 배치하도록 설계되었습니다. CONCEPT 2 Speed는 단일 웨이퍼 플랫폼으로 제작되었으며, 이산화규소, 산화 알루미늄 및 기타 많은 산화물의 증착에 적합합니다. 원자로는 단일 웨이퍼 (single wafer) 또는 배치 로딩 (batch loading) 옵션을 특징으로하며 챔버 가스 흐름, 압력 및 온도를 독립적으로 제어하여 기판 필름 강착을 정확하게 제어 할 수 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed의 이중 챔버 디자인은 플라즈마 소스와 전송 튜브를 통해 연결된 증착실로 구성됩니다. 플라즈마 소스는 단일 플라즈마 소스를 포함하고 있으며, 약 100MHz (약 100MHz) 로 작동하여 증착 공정에서 저주기를 달성한다. 증착 챔버에는 반응물 가스의 흐름을 정확하게 제어하기위한 2 개의 고성능 질량 흐름 컨트롤러가 포함되어 있습니다. 또한 CONCEPT 2 Speed에는 증착 오염을 방지하기위한 원격 플라즈마 소스 (RPS) 가 포함되어 있습니다. "RPS '는 침전실 에 집적 된 원격" 코일' 로서, 정력적 인 전자 "빔 '을 생성 하여 오염 을 감소 시키기 위해 침전" 가스' 의 "가스 '분자 를 분해 시킨다. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed에는 온도 컨트롤러가 장착되어 있으며 챔버 온도 및 플라즈마 밀도 안정성을 유지하기 위해 온도 컨트롤러가 있습니다. 이 기능 은 기판 에 증착 된 "필름 '의 고품질 을 공급 해 주며, 거대 한 기판 보다 우수 한 균일성 을 보장 해 준다. CONCEPT 2 Speed는 다양한 반도체 응용 프로그램의 성능을 향상시키기 위해 탁월한 증착률과 탁월한 균일성을 제공합니다. 또한 다양한 산화물 필름의 고품질 강화를 위해 압력, 온도, 가스 흐름, 플라즈마 밀도에 대한 정확한 제어, 높은 처리량을 제공합니다. 이것은 플래시 메모리 제조, 반도체 장치 제작, 박막 (Thin film) 및 다중 계층 구조의 생산과 같은 응용 분야에 이상적입니다.
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