판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Shrink #293777921

NOVELLUS CONCEPT 2 수축 (Shrink) 원자로는 반도체 업계의 소자 크기 축소의 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급 반도체 처리 도구입니다. 기술 이 계속 발전 함 에 따라, 점점 더 작고 강력 한 전자 기기 의 필요성 이 점점 더 중요 해지고 있다. CONCEPT 2 Shrink Reactor는 고급 증착 및 에치 프로세스를위한 최첨단 기능을 제공함으로써 이러한 요구를 해결합니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Shrink 원자로의 중심에는 고급 챔버 디자인이 있으며, 이는 뛰어난 공정 균일성과 제어를 제공합니다. 이 챔버 설계를 통해 온도, 압력, 가스 흐름 (Gas Flow) 과 같은 프로세스 매개변수를 정확하게 제어할 수 있으므로 웨이퍼 전체에서 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 원자로 (Reactor) 에는 여러 프로세스 모듈 (각각 특정 증착 및 에치 (etch) 프로세스에 맞춘) 이 장착되어 있어 높은 수준의 유연성과 사용자 정의가 가능합니다. CONCEPT 2 Shrink Reactor의 주요 특징 중 하나는 원자 층 증착 (ALD) 및 화학 증착 (CVD) 과 같은 고급 박막 증착 프로세스를 수행 할 수있는 기능입니다. 이러한 프로세스는 반도체 장치에 사용되는 박막 (thin film) 을 만드는 데 필수적이며, 장치 기능에 필요한 절연, 전도성 및 기타 특성을 제공합니다. 원자로 (reactor) 의 프로세스 매개변수에 대한 정확한 제어를 통해 나노 미터 (sub-nanometer) 두께의 균일성을 가진 초박막 (ultra-thin film) 을 증착하여 최적의 장치 성능을 보장합니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Shrink Reactor는 박막 증착 외에도 패턴 전송 및 장치 구조화를위한 고급 에치 기능도 제공합니다. 원자로 에는 "플라즈마 에치 '" 모듈' 이 장착 되어 있어서 선택성 과 균일성 이 높은 여러 가지 재료 를 에치 할 수 있다. 이를 통해 FinFET 트랜지스터, 3D NAND 플래시 메모리와 같은 고급 반도체 장치에 필수적인, 높은 종횡비로 복잡한 장치 구조를 만들 수 있습니다. CONCEPT 2 수축 (Shrink) 원자로는 생산성과 비용 효율성에 중점을 두고 설계되었으며, 웨이퍼 처리 용량을 극대화하는 높은 처리량 설계를 갖추고 있습니다. 원자로는 여러 웨이퍼를 동시에 처리하여 사이클 시간을 줄이고, 전반적인 생산성을 높일 수 있습니다. 또한, 원자로에는 공정 효율을 최적화하고 물질 폐기물을 최소화하는 고급 공정 모니터링 (Advanced Process Monitoring) 및 제어 시스템이 장착되어 있습니다. 전반적으로 NOVELLUS CONCEPT 2 Shrink Reactor는 고급 반도체 처리를 위한 최첨단 솔루션으로, 정밀도, 유연성 및 생산성의 조합을 제공합니다. 첨단 챔버 (Chamber) 설계, 공정 모듈, 제어 시스템을 통해 광범위한 증착 및 에치 (etch) 공정을 위한 다용도 도구로, 치수가 작고 성능이 뛰어난 차세대 반도체 장치를 개발할 수 있습니다. 반도체 산업이 소형화의 한계를 계속 밀어붙이면서, CONCEPT 2 수축 원자로 (CONCEPT 2 Shrink Reactor) 는 이러한 발전을 가능하게 하는 데 중요한 역할을합니다.