판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9382778

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel은 3 세대 증착 장비로, 반도체 장치 제조의 정밀, 생산성 및 성능을 향상시키기 위해 설계되었습니다. 반도체 업계의 지속적인 개선 속도를 유지하도록 설계된 PVD (Physical Vapor Deposition) 원자로입니다. CONCEPT 2 Sequel의 2 챔버 디자인은 상부 PVD 챔버와 하부 가스 전달 챔버로 구성됩니다. 동봉 된 PVD 챔버 (PVD chamber) 는 성능에 맞게 최적화 된 맞춤형 플라즈마 기반 챔버이며, 하부 챔버에는 코팅 재료에 대한 동적 가스 흐름을 만들 수있는 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 이 장착되어 있습니다. 정확성과 정확성을 극대화하기 위해 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel의 독점 냉각 기술은 고압, 난류 없는 재순환 장치를 사용하여 일정한 온도를 유지하고 가스 대류를 최소화하면서 반복 가능한 증착 조건을 제공합니다. CONCEPT 2 Sequel은 일관되고 고품질의 필름 증착을 보장하기 위해 정교한 기능을 갖추고 있습니다. 고급 ablative 프로세스는 패턴 후속 정확도를 달성하기 위해 보정 및 제어 가능한 spot-size ablation을 사용합니다. 유연한 아키텍처와 고급 도량형 (Advanced Metrology) 기술을 통해 프로세서는 레시피를 조정하여 필름 스트레스와 스텝 커버리지를 개선하고, 프로그래밍된 임피던스 튜닝을 통해 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel은 프로세스 안정성과 확장성을 최대화하도록 설계된 다양한 고급 프로세스 제어 기능을 갖추고 있습니다. 다단계 웨이퍼 처리 장치 (Multi-side Wafer Handling Machine) 는 정확한 회전 및 가속 제어를 통해 웨이퍼의 정확한 정렬 및 방향을 제공합니다. 또한 고도로 자동화 된 기판 처리 도구, 정밀 단계 매핑 자산, 기판 식별을위한 로봇 암 (robotic arm) 및 빠르고 정확한 진단을 위한 스마트 인사이트 (in-situ) 모델이 특징입니다. 장비에 통합된 것은 고유한 종단점 감지 기능을 포함하여 실시간으로 즉시 처리 (immediate-action) 프로세스를 제어하는 기능입니다. 이러한 기능을 통해 운영자는 프로세스 변경에 신속하게 대처할 수 있으므로 처리량 (Throughput) 및 수익률을 높여 경제적 이익을 극대화할 수 있습니다. CONCEPT 2 Sequel은 효과적이고 신뢰할 수있는 증착 시스템으로, 21 세기 반도체 장치 제조 산업의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 제품은 정밀도, 생산성, 성능을 극대화하고 프로세스 안정성, 확장성을 최적화하여 비용, 처리량, 수익률을 높일 수 있도록 설계되었습니다.