판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9188213

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel은 반도체 칩 제조에 사용되는 고성능 에치 원자로입니다. 유전체, 폴리 실리콘, 텅스텐 및 얕은 트렌치 격리 (STI) 에치 공정에서 처리량 증가, 균일 성 향상 및 빠른 사이클 시간에 이상적입니다. Concept 2는 이중 압력, 이중 가스 구성을 특징으로하여 매우 효율적입니다. 빠른 시작 압력 (quick-start pressure) 은 비교적 짧은 시작 주기 시간을 허용하는 반면, 낮은 작업 압력은 최적의 가스 및 입자 흐름을 보장하여 처리 비용을 줄입니다. 컨셉 2 (Concept 2) 에는 에치 프로세스를 더 세밀하게 제어 할 수있는 2 개의 주파수 제어 RF 생성기가 있습니다. 이중 마이크로 머신 (micromachined), 이중 LED 스캐닝 장비는 최고 수준의 처리량을 보장하며, 입자 크기, 균일성 및 스퍼터 속도의 가장 작은 변형을 감지합니다. 마이크로파 발전기 (microwave generator) 를 사용하면 시동 및 작동 중에 필요한 온도로 챔버를 즉시 가열할 수 있습니다. 고효율 가스 (gas delivery) 시스템과 결합하여 프로세스 처리량이 가장 높고 균일성이 최적화됩니다. 컨셉 2 (Concept 2) 는 또한 냉각 플라즈마 (cold-wall) 구조를 특징으로하며 에칭 할 영역 주변의 우수한 열 프로파일 솔루션을 제공합니다. 이는 열 구배를 낮추고, 에너지 절약 향상, 교차 오염 감소, 기계적 기울기 (mechanical tilt) 및 스캔 (scan) 으로 인한 반사 및 주기 시간 벌칙을 제거합니다. 또한 Concept 2를 사용하면 유지 관리 및 수리를 단순화하는 빠른 액세스 기능을 사용할 수 있습니다. 이 플랫폼은 통합 진단 센터 (Diagnostic Center) 를 갖추고 있으며, 이를 통해 운영자는 제조 공정 전반에 걸쳐 장치를 변경하고 조정할 수 있습니다. 또한 실시간 프로세스 모니터링 머신을 통해 운영자는 웨이퍼 에치 (wafer etch) 품질 및 프로세스 매개변수를 모니터링할 수 있습니다. 전반적으로 CONCEPT 2 Sequel은 반도체 칩 제조에서 수율, 처리량, 균일성 및 비용 절감 증가를위한 이상적인 원자로입니다.