판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #293820418
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ID: 293820418
빈티지: 2012
Dual sequel express system
Single chamber
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz
3 Phase
2012 vintage.
노벨 루스 C2 (NOVELLUS C2) 원자로는 반도체 업계에서 집적회로 (IC) 및 기타 전자 장치의 대용량 제조에 사용되는 최첨단 고급 증착 시스템입니다. NOVELLUS Systems에서 개발 한 C2 원자로는 중요한 박막 증착 어플리케이션을 위해 탁월한 필름 품질, 높은 처리량, 탁월한 프로세스 제어를 제공하도록 설계되었습니다. NOVELLUS C2 원자로는 화학 증기 증착 (CVD) 공정을 사용하여 이산화실리콘 (SiO2), 질화실리콘 (Si3N4) 및 기타 유전체 물질을 반도체 웨이퍼에 침전시킵니다. 이 박막은 단열재 (insulation), 수동화 (passivation) 및 장치의 적절한 기능에 필요한 기타 필수 기능을 제공하여 고급 IC (advanced IC) 를 제작하는 데 중요한 역할을 합니다. C2 원자로의 주요 특징 중 하나는 이중 챔버 (dual-chamber) 설계로, 별도의 챔버에서 2 개의 웨이퍼를 동시에 처리 할 수 있습니다. 이 이중 챔버 구성은 단일 챔버 (single-chamber) 시스템에 비해 생산성과 처리량을 대폭 향상시켜, 웨이퍼 처리 시 무중단 운영 및 다운타임 최소화를 지원합니다. NOVELLUS C2 원자로는 고급 공정 제어 기술을 사용하여 전체 웨이퍼 표면에 균일 한 필름 증착을 보장합니다. 정교한 소프트웨어 알고리즘 및 실시간 모니터링 시스템을 통해 온도, 압력, 가스 흐름 속도, 기타 프로세스 매개변수에 대한 정확한 제어가 이루어집니다. 이러한 제어 수준은 고성능 IC (HPC) 에 필요한 단단한 공차 및 균일한 필름 두께를 달성하는 데 필수적입니다. 또한, C2 원자로는 자동 로드 및 언로드 시스템, 웨이퍼 정렬 메커니즘, 현장 내 엔드포인트 감지 도구 등 다양한 웨이퍼 처리 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 기술은 웨이퍼 처리 프로세스를 간소화하고, 인간의 개입을 최소화하며, 처리 중 웨이퍼 오염 또는 손상 위험을 줄입니다. 노벨 러스 C2 (NOVELLUS C2) 원자로는 첨단 공정 제어 (process control) 및 웨이퍼 처리 기능 외에도 다양한 반도체 제조 공정의 특정 요구 사항을 충족하는 다양한 사용자 정의 옵션을 제공합니다. 사용자는 배치 매개변수를 쉽게 조정하고, 다른 전구체 가스를 선택하고, 챔버 구성을 수정하여 필름 속성과 장치 성능을 최적화할 수 있습니다. C2 원자로는 또한 안정성, 견고성, 유지 보수 용이성으로 유명하며, 생산 환경에서 일관된 성능, 높은 가동 시간을 보장합니다. 모듈식 설계를 통해 주요 구성요소를 신속하게 교체할 수 있으며, 유지 관리 비용과 장비 장애와 관련된 다운타임을 줄일 수 있습니다 (영문). 전반적으로 NOVELLUS C2 원자로는 최첨단 기술 (최첨단) 과 뛰어난 공정 제어 (process control) 를 결합하여 최신 반도체 제조의 까다로운 요구 사항을 충족하는 최첨단 증착 시스템입니다. C2 원자로는 이중 챔버 설계, 고급 프로세스 제어 (process control) 기능, 맞춤형 (customizable) 기능을 통해 고급 IC 및 전자 장치를 제작하는 다용도 및 신뢰할 수 있는 도구입니다.
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