판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #293798174
URL이 복사되었습니다!
확대하려면 누르십시오
ID: 293798174
빈티지: 2002
CVD System, 8"
Wafer type: Notch / flat
Process: SION
Mag7 Robot vacuum
Single chamber
Light towers: RYG, 3-Color
Main frame: DLCM Express, 8"
Signal tower: Cool station
Dual load lock cassette module
No integrated SMIF ASYST LPI2200
No front-end option
Process chamber A:
Process type: SION
High frequency RF Generator: RFG5500
Low frequency RF Generator: PDX1400
Gate and throttle valve
End point detector
Manometers: 10 / 1000 TORR MKS
Ferrofluidic spindle
Clean process: IN-SITU
Gas box:
Gas / MFC Size (SCCM)
C2F6 / 5000
PH3 / 1000
O2 / 5000
SIH4 / 1000
NH3 / 3000
N2O / 10000
N2 / 10000
N2 / 5000
Heater
Shower head
Gas box exhaust
2002 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express는 고급 반도체 장치 처리를 위해 제작 된 최첨단 다기능 에치 및 증착 원자로입니다. 이 배치 기반 PECVD 지원 도구는 웨이퍼 처리를 위해 다용도 및 비용 효율적인 플랫폼을 제공합니다. CONCEPT 2 Sequel Express는 혁신적인 "핫 월 (Hot Wall)" 개념을 기반으로하며 단일 원자로에서 통합 챔버 청소, 쿼츠 벽 활성화 및 증착 단계를 가능하게합니다. 핫 월 (Hot Wall) 설계는 처리 최적화를 위해 높은 처리량, 저렴한 웨이퍼 당 접근 방식을 제공합니다. 핫 월 (Hot Wall) 의 높은 열 효율성은 균일 한 온도 분포와 빠른 주기 시간을 보장합니다. Sequal Express는 이중 가스 인젝터, 고 선형 히터, 온도 별 프로그래밍 가능한 바이어스, 범용 소스 모듈 등 다양한 기능을 제공합니다. 이중 가스 인젝터는 증착 가스의 흐름을 정확하게 제어하고, 빠른 주기 시간을 전달하도록 설계되었습니다. 높은 선형 히터는 향상된 온도 조절을 제공하여 우수한 에칭 및 증착 성능을 제공합니다. 온도별 프로그래밍 가능한 바이어스는 온-웨이퍼 성능을 향상시키고 전체 웨이퍼에 대해 균일성을 유지합니다. 유니버설 소스 모듈 (Universal Source Module) 은 다양한 가스 및 재료와의 호환성을 제공하므로 단일 극성 (Unipolar) 및 양극성 (Bipolar) 기판에서 고성능 장치 제조가 가능합니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express (NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express) 에는 통합 된 고급 벤트 챔버 (vented chamber) 가 있으며, 이는 챔버에서 최적의 환경을 유지하기위한 동시에 처리 챔버에서 휘발성 유기 화합물 (VOC) 배출을 최소화합니다. 환기 된 챔버 (vented chamber) 는 또한 챔버에서 물 및 기타 물질을 빠르고 안전하게 제거 할 수 있으므로 오염을 최소화하고 높은 처리율을 유지 할 수 있습니다. 전반적으로 CONCEPT 2 Sequel Express는 고급 반도체 장치의 효율적인 처리를 위한 혁신적인 도구입니다. 핫 월 (Hot Wall) 디자인은 빠른 열 균일성과 주기 시간을 보장하며, 이중 가스 인젝터 및 기타 고급 기능은 광범위한 재료 및 가스와 호환성을 제공합니다. 마지막으로, 환기 된 챔버는 최적의 작동 조건을 유지하면서 VOC 배출량을 최소화합니다.
아직 리뷰가 없습니다