판매용 중고 NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9281515

NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel은 반도체 장치 제조에 사용되는 박막을 퇴적시키기 위해 설계된 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 이중 압력 및 이중 온도 원자로 (dual temperature reactor) 는 반응물 농도를 조절하고 챔버 내 온도를 제어하기 위해 2 개의 펌프를 사용합니다. 이중 압력 펌프는 더 큰 가스 흐름 제어를 제공하며, 이는 CVD 응용 프로그램을 최적화하는 데 이상적입니다. Concept 2 Dual Speed Sequel은 폴리 실리콘 증착 원자로입니다. 처리 실과 가스 전달 플레 넘 사이에 2 개의 펌프가있는 고압 고속 반응 구역 (High Pressure High-Speed Reaction Zone) 이 특징입니다. 첫 번째 "펌프 '는 전구체" 가스 펌프' 로서 그 과정 에 사용 되는 전구체 를 전달 한다. 두 번째 "펌프 '는 반응 압력" 펌프' 로서, 반응 지대 내 에서 일정한 압력 을 유지 하여 반응물 농도 를 정밀 하게 조절 한다. NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel은 또한 2 개의 적절한 크기의 흐름 밸브를 갖춘 고속 저압 반응 영역을 갖추고 있습니다. 첫 번째 "밸브 '는 저압" 밸브' 로서 반응 "가스 '의 도입 을 조절 하고 두 번째" 밸브' 는 고압 "밸브 '로서" 가스' 의 주거시간 과 농도 를 조정 한다. 이 두 밸브는 필름 증착률 (film deposition rate) 과 필름 품질 (film quality) 을 정확하게 조작하고 제어할 수 있습니다. Concept 2 Dual Speed Sequel에는 효율적인 난방 및 냉각을 위해 이중 온도 삽입이 있습니다. 이중 온도 삽입물 (dual temperature insert) 은 원자로 내의 온도 프로파일을 최적화하여 생산 수율을 높입니다. 밀접하게 간격을 둔 히터 (heater) 요소가 삽입되어 있어 온도 조절이 균일하고 시간 반응이 빠릅니다. 이 요소들은 또한 전체 반응 영역을 통해 균일 한 온도를 제공합니다. NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel에는 직관적이고 사용하기 쉬운 사용자 인터페이스가있는 고급 컨트롤러 장치가 있습니다. 이 컨트롤러에는 자세한 프로세스 매개 변수 조작을 허용하는 GUI (Graphical User Interface) 가 있습니다. 또한 이 GUI 는 실시간 모니터링 기능을 제공하며, 사용자는 즉시 프로세스 매개 변수를 조정할 수 있습니다. Concept 2 Dual Speed Sequel은 박막의 효율적이고 정확한 증착을 촉진하는 고급 CVD 원자로 시스템입니다. 이중 압력 (Dual Pressure) 과 이중 온도 시스템 (Dual Temperature System) 은 프로세스 매개변수를 정확하게 제어하는 반면, 근접 온도 제어는 더 높은 생산 수율을 가능하게합니다. 고급 컨트롤러 (Advanced Controller) 시스템은 실시간 프로세스 조작이 가능하므로 환영합니다. 이러한 모든 기능은 NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel을 박막 증착에 이상적인 도구로 만듭니다.