판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9299473

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express Reactor는 산화물, 질화물 등 매우 얇은 재료 층을 다양한 기판에 퇴적시키는 데 사용되는 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 이 장치에는 각각 4 개의 Dual EndurTM 프로세스 모듈이 포함 된 2 개의 개별 Sequel 처리 챔버가 장착되어 있습니다. 시플 챔버 (Sequel chamber) 는 처리량이 많은 처리를 위해 설계되었으며, 다른 화학 증기 증착 시스템에 비해 얇은 필름을 매우 빠른 속도로 입금 할 수 있습니다. 컨셉트 2 (Concept 2) 는 매우 다양성을 자랑하며, 사용자가 단일 배치에서 여러 전구체로 최대 200 × 200mm 크기의 기질을 처리 할 수 있습니다. 듀얼 엔더 (Dual Endur) 프로세스 모듈은 균일 한 증착 및 유량 제어를 제공하며, 긴 서비스 수명과 수년간 안정적인 운영을 보장하는 혁신적인 다이아몬드와 같은 코팅을 제공합니다. 정밀 증착 공정 (precision deposition process) 은 매우 반복 가능하여 기판의 전체 표면에서 일관된 레이어 두께를 보장합니다. 컨셉트 2 (Concept 2) 에는 모듈식 로드 잠금 시스템이 장착되어 있어 재료를 빠르고 쉽게 적재하고 언로드할 수 있습니다. 이 장치는 저압 하중 잠금 장치 (Low Pressure Load Lock) 를 갖추고 있으며, 추가 질소없이 진공과 주변 압력 사이에서 재료가 전이 될 수 있습니다. 로드 락 (load lock) 은 일반 웨이퍼에서 풀 프레임 카세트에 이르기까지 다양한 기판 홀더를 수용하도록 설계되었습니다. 프로세스 제어 측면에서 Concept 2는 LCD 터치스크린 사용자 인터페이스, 자동 레시피 에디터, 실시간 온도, 압력 모니터링 등 다양한 고급 기술을 사용합니다. 또한 이 장치는 이더넷 (Ethernet) 연결을 제공하여 사용자는 컴퓨터 네트워크를 통해 원격으로 시스템에 액세스하고 제어할 수 있습니다. 전반적으로 CONCEPT 2 Dual Sequel Express Reactor는 다양한 기판에 박막을 효율적이고 정확하게 증착하도록 이상적인 선택을합니다. 이 장치는 처리량이 높고 프로세스 제어가 우수하여 연구/운영 환경 모두에 적합하므로, 비용 절감, 에너지 절감, 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다.