판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9223972

ID: 9223972
System User interface: C2-SCON5995 Wafer shape: Flat / Notch No SMIF interface No aligner option Module A / B: Express Process A: ARC Process B: AEC Load lock baratron model: Convectron Index robot type: Index 2 TM Robot type: Mac 7 TM Robot blade: Metal Wafer sensor: Existence Signal tower No fab installation Module controller: MC1 Host interface: SECS EMO: Push button Front monitor: System UI LCD Back monitor: CRT No load lock dry pump Slit valve insert Slit valve type: SMC L-Motion No TM dry pump TM Throttle valve model: Millipore TM Baratron model: MKS Module A / B: Chamber type: Express Module controller: MC1 Chamber process: ARC IOC Version: IOC1 / 4.1 IOC2 / 4.1 IOC3 / 4.1 Manometer 1(10T): MKS Manometer 2(1000T): MKS Process clean type: Normal HF Generator: AE RFG5500 LF Generator: AE PDX1400 RF Match: Mercury Heater block type: (6) Stations End point option: Dual head Spindle top plate type: (6) Pieces Spindle type: Ferrofluidic Foreline gate heat option Foreline gate valve: HVA Throttle valve: MKS 2538-15665 Throttle valve heat option Liquid IOC version: 4.1 No module dry pump RF Isolation box missing Pearl kit missing (N2O Treatment kit) Gas / MFC Size / MFC / Model N2 / 5 / SLM / Awra FC7800CD N2 / 10 / SLM / Awra FC7800CD N2O / 20 / SLM / Awra FC7800CD NH3 / 10 / SLM / Awra FC7800CD SÌH4 / 1 / SLM / Awra FC7800CD O2/CF/ 20 / SLM / Awra FC7800CD PH3/N2 / 2 / SLM / Awra FC7800CD N2O / 1 / SLM / Awra FC7800CD C2F6 / 5 / SLM / Awra FC7800CD System: Main power: 208 V, 3 Phase, 5 wires UPS power: 120 V, 3 Phase, 3 wires.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express는 화학 공정 및 코팅에 사용되는 원자로입니다. 2 개의 내부 회전 튜브와 평평한 다운 스트림 증착실이 장착되어 있습니다. 최대 성능을 제공하면서 처리량을 최대화할 수 있도록 설계되었습니다. CONCEPT 2 Dual Sequel Express의 주요 구성 요소는 상부 및 하부 증기 제트 인젝터, 동심 램프 및 배플 플레이트, 하류 샤워 및 고압 물/가스 스트림입니다. 상부 및 하부 증기 제트 인젝터 (vapor jet injector) 는 원자 화 된 전구체를 반응 챔버에 스프레이하고, 이어서 가열되고 반응시킨다. 동심원 램프 (concentric ramp) 와 배플 플레이트 (baffle plate) 는 반응 혼합물의 거주 시간을 증가시켜 모든 성분 사이에 더 많은 양의 반응을 가능하게한다. 다운 스트림 샤워 (downstream shower) 는 반응 챔버의 내부 및 외부 벽에있는 모든 반응 생성물을 증착 할 수 있도록 설계되었습니다. 마지막으로, 고압 물/가스 스트림은 챔버 내에서 반응의 균일성을 보장합니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express는 아크릴, 산화물, 실리콘, 질화물, 탄화물 등과 같은 다양한 재료를 처리 할 수 있습니다. 화학 증기 증착 (CVD), 물리 및 화학 증기 증착 (PECVD) 및 스퍼터 증착에 사용할 수 있습니다. CONCEPT 2 Dual Sequel Express는 열 증착 작업을 처리 할 수도 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express는 고급 수준의 제어, 분석 및 안전 기능도 제공합니다. 원격 (remote) 프로덕션 모니터가 장착되어 있어, 사용자가 정밀 제어를 위해 가장 높은 프로세스 매개변수를 추적할 수 있습니다. 또한 향상된 사용자 인터페이스 및 데이터 로깅을 위한 통합 터치 스크린이 있습니다. 데이터 획득 시스템 (Data Acquisition System) 은 원자로 실내에서 실시간 생산에 대한 데이터 및 분석을 제공하여 프로세스 균일성을 나타냅니다. 마지막으로 CONCEPT 2 Dual Sequel Express에는 프로세스 차단 밸브 및 긴급 종료 버튼과 같은 안전 기능도 있습니다. 전반적으로 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express는 효율적이고 안전한 화학 가공 및 코팅 방법을 제공합니다. 제공되는 고급 제어 수준은 모든 프로세스 동안 정확성과 균일성을 보장합니다. 원격 운영 모니터와 내장형 터치 스크린 (touch Screen) 을 통해 이 프로세스는 사용자 편의성이 높아 효율성을 높일 수 있습니다.
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