판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093691
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ID: 9093691
웨이퍼 크기: 8"
Chamber, 8"
Facility and Interface:
CVD tungsten
Wafer type: SEMI
Wafer cassette type: A198-80MB-47C02 - Fluoroware
DLCM-S Heater manometers: Yes
Altus module locations: Dual, Port 2 and 3
Facilities configuration: Bottom
Remote interconnect cable length: 75 feet
Transfer
Module A Port location: Center
Module B Port locationL Right
Primary user interface: Adjacent user interface
DLCM-S:
Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11
Robot Assy, Mag7, Bisymmetrik arm, DLCM: 02-262359-00
Transfer module to chamber valve (SMC valve): 02-121427-00
Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02
Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00
Readiness kit (if ordered as a single altus): Dual Altus ready
Software/Controls:
Module controller type: 02-272554-00 (MC3)
System controller type: 02-267883-00 (MC3)
System software (QNX): 5.1
DLCM-S IOC:
0: Type: IOC, Firmware: 4.1
2: Type: IOC, Firmware: 4.1
3: Type: IOC, Firmware: 4.1
Altus IOC:
0: Type: SIOC, Firmware: 4.30
1: Type: SIOC, Firmware: 4.30
2: Type: SIOC, Firmware: 4.30
3 (MPD): Type: IOC, Firmware: 4.10
Chase UI Kit: 02-117110-00
Process Chamber Configuration:
SHWRHD, 8", Style B: 03-00258-00
Assy, PED, 8" MOER, D.3, Semi: 02-033134-01
Excl ring, 8", 2.0 mm Oh, Semi: 15-032777-00
Indexer plate, HUB: 15-034848-00
Indexer, WF, Excl, Option, 8": 15-00934-02
Spindle assembly: 02-126697-00
Opt endpt det'r, MSTR, Alt-S: 04-120458-00
Throttle valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00
Gate valve: 60-10015-00
Gas Box Configuration:
A Manifold:
1: Aera FC-7800 CD, Ar / 2 SLM
3: Aera FC-7810 CD, H2, 20 SLM
B Manifold:
6: Aera FC 7810 CD, C2F6 / 2 SLM
7: Aera FC 7800 CD, O2 / 2 SLM
D Manifold:
2: Aera FC-7800 CD, SiH4 / 100 SCCM
H Manifold:
D: Aera FC-7810 CD, Ar / 20 SLM
W Manifold:
4: Aera FC-7810 CD, Ar / 20 SLM
5: Aera FC-7800 CD, WF6 / 1 SLM
C Manifold:
8: Aera FC 7810 CD, Ar / 10 SLM
9: Aera FC 7810 CD, H2 / 20 SLM
Baratron:
Altus, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00
Altus, CAP Manometer, Heater 10 Torr: 27-10343-00
Altus, Backside, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00
DLCM-S, Loadlock, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00
DLCM-S, TM, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00
Supporting remote units:
(1) Process pump per process chamber: BOC Edwards Ih1000
(1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards i80
(1) TM Pump per system: BOC Edwards i80
(1) LL Pump per system: BOC Edwards i80.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2는 빠르고 효율적인 에치 처리를 위해 설계된 최첨단 원자로 장비입니다. 생산량을 높이기 위해 에치 프로세스 (etch process) 의 빠른 응답 시간과 월등한 제어 기능을 제공하도록 특별히 설계되었습니다. CONCEPT 2 듀얼 알투스 2 (Dual Altus 2) 는 통합 챔버 레이아웃이있는 단일 공통 기판 플랫폼을 기반으로 구축되어 처리 매개변수의 유연성과 최적화를 지원합니다. 이 플랫폼은 디바이스 요구 사항과 애플리케이션의 복잡성을 충족시키기 위해 최대 4 개의 에치 챔버 (etch chamber) 를 수용할 수 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2는 에칭 프로세스를 정확하게 제어하기 위해 구성 가능한 플라즈마 전력, 가스 흐름, 압력 및 온도 제어를 제공합니다. 에치 (etch) 프로세스는 특정 고객 요구 사항에 맞게 조정할 수 있으며, 시스템은 프로파일 모양, 레이어 두께, 깊이, 종횡비를 완벽하게 제어합니다. CONCEPT 2 Dual Altus 2는 에치 속도가 매우 높고 비등방성 에치 프로파일을 가능하게 하는 고유 한 MESA (Multi-Etching Source Assisted) 프로세스를 포함한 최신 플라즈마 에치 기술을 사용합니다. 내장 플라즈마 소스는 유도 커플 링, 유도 커플 링 (coupling) 을 모두 사용하여 프로세스 유연성을 향상시키고 프로파일 제어를 개선합니다. 이 장치에는 자동 플라즈마 (Plasma) 및 모니터 머신 (Monitor Machine) 도 장착되어 있어 에치 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한이 도구에는 균일 한 가스 흐름 (gas flow) 을위한 통합 가스 분포 시스템 (integrated gas distribution systems) 과 에치 공정의 정확한 온도 제어를 위해 통합 온도 제어 (integrated temperature control) 가 장착되어 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2는 까다로운 처리량 요구를 충족하면서 뛰어난 프로세스 균일성과 반복성을 제공합니다. 이 에셋은 또한 고급 진단 기능과 다양한 프로세스 모니터 (process monitor) 옵션을 제공합니다. 이 모델은 다양한 에치 프로세스 (etch process) 와 재료에서 안정적인 고품질 결과를 얻을 수 있도록 광범위하게 검증되었습니다. 또한, 이 장비는 대용량 처리량을 지원하므로 다운타임을 최소화하면서 유연하게 제조하고 주기 (cycle time) 를 단축할 수 있습니다. CONCEPT 2 듀얼 알투스 2 (Dual Altus 2) 는 다양한 업계 어플리케이션의 요구를 충족하는 고급적이고 유연한 에치 솔루션을 제공합니다.
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