판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093690
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ID: 9093690
Chamber
Includes:
(1) Process pump per process chamber: BOC Edwards, P/N: ih1000
(1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards, P/N: i80
(1) TM Pump per system: BOC Edwards, P/N: i80
(1) LL Pump per system: BOC Edwards, P/N: i80
Facility and Interface:
Altus module locations: Dual, Port 2 and 3
Remote interconnect cables; 75 ft
Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11
DLCM-S:
Robot assy, Mag7, Bisymmetrik Arm, DLCM: 02-262359-00
Transfer module to chamber valve (SMC Valve): 02-121427-00
Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02
Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00
Readiness kit: Dual Altus ready
Software/Controls:
Modular controller type: 02-272554-00, MC3
System controller type: 02-267883-00, MC3
System software (QNX): 5.1
DLCM-S IOC:
0, IOC, 4.1
2, IOC, 4.1
3, IOC, 4.1
Altus IOC:
0, SIOC, 4.30
1, SIOC, 4.30
2, SIOC, 4.30
3 (MPD), IOC, 4.10
Chase UI Kit: 02-117110-00
Process Chamber Configuration:
SHWRHD, 8", Style B: 03-00258-00
Assy, Ped, 8" Moer, D.3, Semi: 02-033134-01
Excl ring, 8", 2.0 mm Oh, Semi: 15-032777-00
Indexer plate, Hub: 15-034848-00
Indexer, WF, Excl, Option, 8": 15-00934-02
Spindle assembly: 02-126697-00
Opt endpt det'r, Mstr, Alt-s: 04-120458-00
Throttle valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00
Gate valve, vat: 60-10015-00
Gas Box Configuration:
A Manifold:
1: Aera FC-7800CD, AR/2 SLM
3: Aera FC-7810CD, H2/20 SLM
B Manifold:
6: Aera FC-7810CD, C2F6/2 SLM
7: Aera FC-7800CD, O2/2 SLM
D Manifold:
2: Aera FC-7800CD, SiH4/100 SCCM
H Manifold:
D: Aera FC-7810CD, AR/20 SLM
W Manifold:
4: Aera FC-7810CD, Ar/20 SLM
5: Aera FC-7800CD, WF6/1 SLM
C Manifold:
8: Aera FC-7810CD, AR/10 SLM
9: Aera FC-7810CD, H2/20 SLM
Baratron:
Altus, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Altus, CAP MANOMETER,HEATED 10 TOR: 27-10343-00
Altus, Backside, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, LOADLOCK, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, TM, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 원자로는 대용량 반도체 소자 제품의 생산에 사용되는 화학적으로 강화 된 CEPVD (physical vapor deposition) 원자로입니다. 즉, 다양한 동적 구성에서 다양한 애플리케이션을 지원하는 모듈식 아키텍처를 기반으로 합니다. 원자로 (reactor) 는 이중 챔버 (dual chamber) 로 설계되어 한 챔버에 고속 증착이 가능하고 다른 챔버에는 저속 증착이 가능합니다. 이를 통해 원자로는 사용가능한 비용을 줄이면서 높은 처리량을 유지할 수 있습니다. 원자로는 소스챔버와 웨이퍼 공정 챔버 (Wafer Process Chamber) 를 분리하는 독특한 열처리 설계 (Thermally Unatched Design) 를 가지고 있으며, 따라서 소스챔버의 열 변형에 의해 고속 증착이 영향을 받지 않습니다. 이러한 열 격리는 효율적인 열 관리 및 일관된 증착 속도를 가능하게합니다. 또한 CONCEPT 2 Dual Altus 2는 동일한 챔버 내에서 다른 레이어를 증착 할 수있는 분할 증착 챔버를 사용합니다. 이 분할 챔버 설계를 통해 원자로를 반도체 생산 라인에 더 쉽게 통합 할 수 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 원자로는 뛰어난 하중 처리, 온도 균일성 및 균일 한 증착률을 제공하는 맞춤형 석영 튜브를 사용합니다. 안정적인 균일성과 테일러 그래피 성능을 보장하기 위해 고급 OWTM (on-wafer temperature monitoring system) 이 있습니다. 고급 OWTM (Advanced OWTM) 은 나노초 이상의 온도에서 빠른 스파이크를 감지하여 단일 웨이퍼에서 열 기울기를 제어 할 수 있습니다. 이렇게 하면 각 웨이퍼 (wafer) 에 대한 실시간 온도 데이터를 모니터링하고 표시함으로써 프로세스가 일관되고 안정적으로 실행되도록 할 수 있습니다. CONCEPT 2 Dual Altus 2 원자로의 주요 장점은 여러 전구체 배치를 처리 할 수있는 기능입니다. 이를 통해 원자로는 단일 배치에서 플랫폼 향상으로 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 업스트림 가스 혼합 시스템을 도입하면 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2가 실시간으로 압력, 온도, 가스 흐름 등 다양한 프로세스 매개 변수를 조정하여 복잡한 증착 과정을 보다 정확하게 제어 할 수 있습니다. 전반적으로 CONCEPT 2 Dual Altus 2는 뛰어난 균일성과 생산률을 제공하는 입증되고 신뢰할 수있는 CVD 원자로입니다. 최첨단 온웨퍼 (on-wafer) 온도 모니터링 시스템과 함께 여러 전구체 배치를 처리할 수 있는 기능으로, 대용량 반도체 소자 제품의 생산에 이상적인 선택입니다.
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