판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2-CVDD-S #293776222

NOVELLUS Concept 2 CVDD S는 반도체 물질을 퇴적시키기 위해 특별히 설계된 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 단일 웨이퍼, ultrahigh 진공 챔버로, 전구체의 저압 가스 혼합물을 사용하여 반도체 재료의 얇은 필름을 생산합니다. 전구체 "가스 '를 약실 로 끌어들인 다음, 약실 에서 생성 되는 고온 에 의해 가열 되고 분해 된다. 이것은 균일 한 두께로 기판에 침전되는 기질 화합물을 생성합니다. Concept 2 CVDD S는 혼합 모드 처리 기능을 제공하며 질화물, 산화물, 폴리 실리콘 및 SRD 금속을 배치 할 수 있습니다. 또한 최대 처리 속도 (throughput) 를 위한 빠르고 자동화된 웨이퍼 (wafer) 처리가 가능하며, 혼합 모드 증착을 위해 성분 간 신속한 변환이 가능한 자동 레시피 설정 기능을 제공합니다. NOVELLUS Concept 2 CVDD S는 최첨단 설계를 사용하여 초고속 증착율 성능과 뛰어난 균일성을 제공합니다. VDT (Voltage-Down Time) 를 줄이고 정상 상태 프로세스 제어를 가능하게하는 최적화 된 2 그리드 전원 전달 장비와 결합 된 단단한 웨이퍼 보트 구조가 특징입니다. 방은 우수한 진공 유지를위한 금속 벨로우 게이트 밸브 (metallic bellows gate valve) 로 밀봉되고, 전력 공급 시스템은 높은 균일성과 반복 가능한 프로세스를 제공합니다. 또한이 장치는 완전하게 자동화 된 기판 전송 메커니즘을 통해 웨이퍼 처리 효율성을 향상시킵니다. Concept 2 CVDD S는 또한 가스 흐름 속도, 압력, 온도, 전력 및 플럭스와 같은 프로그래밍 가능한 변수를 갖춘 고급 컴퓨터 화 된 프로세스 제어 머신을 갖추고 있습니다. 또한 다양한 프로세스 모니터링 기능과 튜닝 (tuning) 기능을 제공하여 프로세스 제어를 정확하고 신속하게 수행할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 경제적이고 안정적이며 유지 보수가 적습니다. 요약하면, NOVELLUS Concept 2 CVDD S는 우수한 증착율, 정확한 제어 및 뛰어난 균일성을 제공하는 초진공, 단일 웨이퍼, CVD 원자로입니다. 광범위한 반도체 애플리케이션에 적합하며, 자동 기판 전송 메커니즘, 2 그리드 (two-grid) 전원 전달 에셋, 프로그래밍 가능한 매개변수, 다양한 프로세스 모니터링 기능과 같은 기능을 자랑합니다. 또한 경제적이고 안정적이며 유지 보수가 낮습니다.