판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9377394

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus는 다양한 물질을 기판에 증착 할 수 있도록 설계된 PVD (Physical Vapor Deposition) 원자로입니다. 금속, 반도체, 도자기 및 저k 유전체 필름의 증착을 포함하여 다양한 응용 분야에 적합합니다. 알투스 (Altus) 는 다양한 필름 및 재료 증착 기술을 통해 높은 처리량과 유연성을 제공하는 혁신적인 고급 PVD 도구입니다. Altus는 이중 선형 자석 소스 구성, 진공 압력 선박 및 필라멘트가없는 공정 챔버 (process chamber) 를 갖춘 최첨단 설계를 갖추고 있습니다. 이중 선형 자석 소스 구성 (dual linear-magnet source configuration) 은 재료 원천을 프로세스 챔버에 직접 배치하여 활기차고 균일 한 플라즈마를 생성합니다. 이 플라즈마 (Plasma) 는 필름 두께와 조성을 정확하게 제어하는 고품질 필름의 증착을 허용합니다. 진공 압력 혈관 (vacuum-pressure vessel) 은 공정의 균일성을 더욱 향상시켜 공정 매개변수의 미세 튜닝을 허용합니다. 필라멘트없는 프로세스 챔버 (filamentless process chamber) 는 뛰어난 균일성과 신뢰성을 제공하며 프로세스 유연성을 향상시킵니다. 하이브리드 화 된 프로세스 옵션 (hybridized process options) 을 특징으로하며, 증착 전에 재료의 광학 특성화없이 필요에 따라 프로세스 매개변수를 변경할 수 있습니다. 따라서 시스템 수정 없이 여러 대상 재료 및 증착 프로세스를 사용할 수 있습니다. CONCEPT 2 Altus는 또한 현장 광학 방출 분광법 (OES) 시스템을 갖추고 있습니다. OES 는 온도, 조성 (composition) 을 포함한 플라즈마 (plasma) 의 즉각적인 모니터링을 가능하게 하며, 이를 통해 운영자는 프로세스를 실시간으로 조정할 수 있습니다. 알투스 (Altus) 는 증착에 대한 실시간 데이터를 제공함으로써 일관되게 고품질의 필름과 재현 가능한 성능을 보장합니다. 전반적으로 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus는 많은 응용 분야에 적합한 고급 PVD 원자로입니다. 첨단 기술 (Advanced Technology) 을 통해 대상 재료의 광학 특성을 최소화하면서 재료 증착을 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한, 고급 현장 광학 방출 분광법 (in-situ optical emission spectroscopy) 을 통해 프로세스를 실시간으로 모니터링하여 고품질의 재현 가능한 결과를 얻을 수 있습니다.