판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093687
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ID: 9093687
웨이퍼 크기: 8"
Chamber, 8"
Facility and Interface:
Altus module locations: Dual: Port 2 and 3
WTS (backbone) facilities connection configuration: Bottom facilities installation
Remote interconnect cables: 75 feet
Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11
DLCM-S:
ROBOT ASSY, MAG7, BISYMMETRIK ARM, DLCM: 02-262359-00
Transfer module to chamber valve (SMC Valve): 02-121427-00
Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02
Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00
Readiness kit: Dual altus ready
Software/Controls:
Module controller type: 02-272554-00, MC3
System controller type: 02-267883-00, MC3
System software (QNX): 5.1
DLCM-S IOC:
0 - IOC - 4.1
2 - IOC - 4.1
3 - IOC - 4.1
Altus IOC:
0 - SIOC - 4.30
1 - SIOC - 4.30
2 - SIOC - 4.30
3 (MPD) - SIOC - 4.10
Chase UI Kit: 02-117110-00
Process Chamber configuration:
SHWRHD, 200 mm, Style B: 03-00258-00
ASSY, PED, 200 mm MOER, D.3, SEMI: 02-033134-01
EXCL RING, 200 mm, 2.0 mm OH SEMI: 15-032777-00
Indexer plate, HUB: 15-034848-00
INDEXCER, WF, EXCL, OPTION, 200 mm: 15-00934-02
Spindle assembly: 02-126697-00
OPT ENDPT DET'R, MSTR, ALT-S: 04-0120458-00
Throttle Valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00
Gate valve, vat: 60-10015-00
Gas box configuration (CESCVD02177B):
Manifold A 1: Aera FC-7800CD, AR/2 SLM
Manifold A 3: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM
Manifold B 6: Aera FC-7800CD, C2F6/2 SLM
Manifold B 7: Aera FC-7800CD, O2/2 SLM
Manifold D 2: Aera FC-7800CD, SiH4/100 SCCM
Manifold H D: Aera FC-7800CD, Ar/20 SLM
Manifold W 4: Aera FC-7800CD. AR/20 SLM
Manifold W 5: Aera FC-7800CD, WF6/1 SLM
Manifold C 8: Aera FC-7800CD, Ar/10 SLM
Manifold C 9: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM
Baratron:
Altus, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Altus, CAP MANOMETER, HEATED 10 TORR: 27-10343-00
Altus, Backside, CAP MANOMETER< HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, LOADLOCK, CAP MANOMETER, HEATER 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, TM, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Supporting remote units:
(1) Process pump per process chamber: BOC Edwards, IH1000 - x2 for process pump typical
(1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards, i80 - x2 for pedestal pump typical
(1) TM pump per system: BOC Edwards, i80 - x1 for TM pump typical
(1) LL pump per system, BOC Edwards, i80, x1 for LL pump typical.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2는 NOVELLUS CONCEPT 2 Reactor 플랫폼의 이중 주파수 이중 소스 버전입니다. 이 원자로는 2단계의 평면 패널 모니터와 모듈식 (modular) 제어 장비를 통해 관리가 간편하고 효율적입니다. 고주파 에너지 (High Frequency Energy) 를 개별적으로 조정할 수있는 2 개의 소스를 갖추고 있어 광범위한 프로세스 제어가 가능합니다. 또한 고급 속도 제어 (Speed Control) 기능을 통해 웨이퍼 전체의 정밀 프로세스 제어 및 균일성을 구현할 수 있습니다. 이 원자로는 또한 정확한 온도 및 가스 흐름 조정 (gas flow adjustment) 을 가능하게하여 특수 박막 증착에 대한 정확한 프로세스 요구 사항을 가능하게합니다. CONCEPT 2 Altus 2 원자로는 전통적인 유도 결합 플라즈마 공정을 기반으로합니다. 자체 바이어스를 사용하여 플라즈마를 유도하는 단일 소스 II-V 기반, 저압, 평면 원자로입니다. 시스템은 두 가지 주파수로 실행됩니다. 하위 소스의 경우 13.65MHz, 상위 소스의 경우 27.3MHz입니다. 이중 주파수 설정 (Dual Frequency Setup) 을 통해 프로세스를 보다 효과적으로 제어하고 성능을 향상시킬 수 있습니다. 두 개의 주파수 설정 (Frequency Setup) 을 사용하면 여러 개의 가스 스트림을 사용할 수 있으므로 증착 과정을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 특별히 제작된 패널 장착 모니터와 제어 장치는 사용자 친화적이며 효율적입니다. 전체 프로세스 모니터링 (full process monitoring) 및 능률적인 매개변수 처리 덕분에 증착 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 다열 기판 포트는 프로세스를 개발할 때 최대의 유연성을 제공합니다. 운영자가 운영자 오류 (operator error) 나 장비 변경으로 인한 불필요한 프로세스 변경을 방지할 수 있도록 안전 기능이 내장되어 있습니다. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 원자로는 고급 연구 연구를 수행하기 위해 안정적이고 효율적인 기계를 제공합니다. 유연한 모듈식 디자인으로 신속한 프로토 타이핑 및 실험실 규모의 생산이 가능합니다. 포괄적인 제어 툴은 가장 엄격한 사양에 따라 프로세스가 수행되도록 합니다. 이 최첨단 원자로는 IC 제조 산업의 최신 기술과 요구를 충족시키기 위해 지속적으로 업그레이드됩니다 (영문). CONCEPT 2 Altus 2 원자로는 다양한 종류의 박막 구조를 제작하기위한 신뢰할 수 있고 효율적인 도구입니다.
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