판매용 중고 NOVELLUS 02-134263-00 #293640038

NOVELLUS 02-134263-00 원자로는 고급 제조 공정에 반도체 산업에서 사용되는 최첨단 박막 증착 도구입니다. 노벨 러스 시스템즈 (NOVELLUS Systems Inc.) 가 제조 한이 원자로는 박막 증착 기술이 크게 발전했으며, 집적 회로 및 기타 반도체 장치 생산에 중요한 역할을합니다. 02-134263-00 원자로는 질화 실리콘, 산화 실리콘, 텅스텐 등 다양한 물질의 박막을 매우 정밀하고 균일하게 실리콘 웨이퍼에 침전하도록 설계되었습니다. 이 정확 한 증착 과정 은 현대 "반도체 '장치 에 필요 한 복잡 한 구조 와 층 을 조성 하는 데 필수적 이다. NOVELLUS 02-134263-00 원자로의 주요 특징 중 하나는 PECVD (advanced plasma-enhanced chemical vapor deposition) 기술입니다. PECVD (PECVD) 는 전통적인 방법에 비해 낮은 온도에서 박막 증착 (thin film) 을 허용하여 웨이퍼의 열 스트레스를 줄이고 필름 품질을 향상시킵니다. 원자로에는 공정 가스를 이온화하는 고주파 플라즈마 소스 (high-frequency plasma source) 가 장착되어 필름 성장을 향상시키고 필름 특성을 정확하게 제어 할 수있는 플라즈마 (plasma) 가 생성됩니다. 02-134263-00 원자로는 또한 증착 과정에서 웨이퍼의 정확하고 반복 가능한 위치를 보장하는 정교한 웨이퍼 처리 시스템을 갖추고 있습니다. 이 시스템은 웨이퍼 표면에 걸친 필름 두께와 균일성 (unifority) 에 대한 엄격한 제어를 유지하면서 높은 처리량을 생산할 수 있습니다. 원자로는 다양한 크기의 웨이퍼 (wafer) 를 처리 할 수 있으며, 이는 연구 및 대용량 제조 응용 모두에 적합합니다. NOVELLUS 02-134263-00 원자로는 고급 증착 기능 외에도, 특정 필름 속성에 대한 증착 매개변수를 최적화 할 수있는 다양한 공정 제어 기능을 제공합니다. 원자로에는 증착율, 필름 두께 (film thickness) 및 기타 중요한 매개변수에 대한 피드백을 제공하는 실시간 모니터링 및 제어 시스템 (real-time monitoring and control systems) 이 장착되어 있어 운영자가 원하는 필름 품질을 달성하기 위해 즉석에서 프로세스 조건을 조정할 수 있습니다. 02-134263-00 원자로는 안정성과 가동 시간을 염두에 두고 설계되었으며, 강력한 구성과 자동화된 유지 관리 루틴으로, 다운타임을 최소화하고 일관된 성능을 보장합니다. 원자로에는 안전성 (Safety Features) 과 인터 록 (Interlock) 이 장착되어 있어 운영자를 보호하고 청소실에서 안전한 작업 환경을 유지합니다. 전반적으로 NOVELLUS 02-134263-00 원자로는 반도체 산업에서 박막 증착을위한 최첨단 솔루션을 나타내며, 탁월한 정밀도, 균일성 및 공정 제어 기능을 제공합니다. 첨단 PECVD 기술, 정교한 웨이퍼 처리 시스템 (Wafer Handling System), 견고한 설계를 갖춘 이 원자로는 다양한 종류의 어플리케이션을 위한 고품질 반도체 장치를 생산할 수 있는 다용도 도구입니다.