판매용 중고 LAM RESEARCH Sabre XT #9223294
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판매
ID: 9223294
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2007
Electro copper plating system, 8"
Wafer cassette: 25 Wafer
Mini-environment: SYNETICS
Chase computer/monitor: Desktop PC/CRT
Exhaust kit: Top mount
Drain kit: Backside
Cassette handler module:
Load port: Static nests, (4) stations
Wafer aligner type: Mechanical center finder
Robot type: AQR7 BROOKS
End effector: SST x/Vacuum port
Mapping type: Thru-beam
Wafer release: With puff
Plating cell configuration:
Cell 1 / Cell 2 / Cell 3:
Clamshell type: Standard
Clamshell cup type: PPS
Clamshell cylinder: Pressure vacuum cylinder
ANODE Type: Standard
(2) TI Cables
SAC
Clamshell lift: IAI
ACR
Active top hat
Plating power: AE Pulse power supply
Post plating cell configuration:
Cell 1 / Cell 2 / Cell 3:
Chuck type: PPS
Wafer present sensor mount: Standard
EBR
Bath Module
Totalizer #1 / #2: FLORITE
Dosing pump 1 / 2 / 3: MS1602-024
Recirculation pump mpdel: IWAKI WALCHEM CMD-101
CDM Level sensor type: KEYANCE
Heat exchanger: NESLAB HX-75
Auxiliary equipment:
Chemical monitoring system (CMS): ECI QLC-7000
Chemical delivery system (CDS)
Mini delivery system (MDS)
DI Water delivery system
Input voltage: 208 VAC, 50/60 Hz, 100 A
2007 vintage.
LAM RESEARCH Saber XT는 반도체 산업의 에치 및 증착 프로세스를 최적화하도록 설계된 저압, 멀티 챔버, 대기 플라즈마 장비입니다. 이 제품은 Saber 제품군의 2 세대이며 LAM RESEARCH 엔지니어의 광범위한 연구 결과입니다. Saber XT는 향상된 성능 및 프로세스 제어를 위한 고급 기술을 갖추고 있습니다. 자력적으로 결합 된 멀티 스테이지 시스템 (magnetically-coupled, multi-stage system) 을 장착하여 증착실 출혈을 줄여 에치 선택성과 프로파일 기능을 더 잘 제어합니다. 원자로는 또한 최적의 결과를 얻기 위해 에치 챔버 (etch chamber) 내부에 균일 한 증착률을 보장하도록 설계된 저압, 4 구역, 연사 난방기 프로세스를 특징으로합니다. 또한 LAM RESEARCH Saber XT에는 균일 한 프로세스 제어 및 최적화를 위한 분산 전원 릴레이 장치 및 PMC (Process Monitoring and Control) 소프트웨어 패키지도 포함되어 있습니다. Saber XT는 프로세스 자동화 및 사용자 정의를위한 '프로그래밍 가능한' 챔버를 자랑합니다. 이를 통해 etch 및 deposit 프로세스 매개변수를 정확하게 제어할 수 있으며, 처리량 및 etch 수율을 더욱 향상시킵니다. LAM RESEARCH Saber XT (LAM RESEARCH Saber XT) 에는 입자 마스크와 필터 머신이 있으며, 입자 빌드 효과를 줄여 더 깨끗하고 균일 한 반응 표면을 보장합니다. Saber XT는 DRAM, 플래시 메모리, 마이크로 컨트롤러, 프로그래머블 논리, CPU, 메모리 IC 및 SoC를 포함한 다양한 반도체 제품의 생산을 돕기 위해 설계된 다목적 도구입니다. 많은 생산 라인에 대한 업계 표준 자산이며, 에치 깊이 조정 (etch depth adjustment) 및 리소그래피 (lithography) 와 같은 하이엔드 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 원자로는 20,000 시간의 고장 사이의 평균 시간으로, 신뢰성이 높습니다. LAM RESEARCH Saber XT는 모든 반도체 생산 라인에 적합한 견고하고 안정적인 원자로 모델입니다. 고급 기술, 프로그래밍 가능한 챔버, 우수한 입자 마스커 및 필터 장비를 갖춘 세이버 XT (Saber XT) 는 에치 및 증착 공정에서 최고의 품질을 달성하기위한 완벽한 솔루션입니다.
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