판매용 중고 LAM RESEARCH / NOVELLUS CONCEPT ONE #9079785

ID: 9079785
웨이퍼 크기: 6"
CVD (Tungsten) Systems, 6" Generators Pumps Currently installed in fab, powered down.
LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT ONE은 NOVELLUS와 LAM RESEARCH Systems에서 개발 한 글로벌 공동 브랜드 원자로입니다. 300mm (12 인치) 의 고급 스텝 앤 리피트 (step-and-repeat) 장비로, 반도체 소자 제조와 같은 마이크로 리토 그래피 부문의 높은 생산성, 정밀 에치 어플리케이션을 위해 설계되었습니다. NOVELLUS CONCEPT ONE은 전체 기판 표면에서 움직일 수있는 고속, 고온, 원격 플라즈마 소스를 사용합니다. 이렇게 하면 프로세스 시간이 빨라져 높은 정밀도 패턴화 (patterning) 및 에치 (etch) 특성을 얻을 수 있습니다. 고정밀 독립 척 (high-precision independent chuck) 메커니즘은 복잡한 패턴화를 가능하게하며, 공기 베어링 (air bearing) 컴포넌트는 열주기로 인한 부품 성능의 저하없이 우수한 동작을 제공합니다. LAM RESEARCH CONCEPTONE (LAM RESEARCH CONCEPT ONE) 에는 다양한 액세서리가 장착되어 있어 다양한 에치 애플리케이션에 적합합니다. 첫째, 냉각 시스템에는 웨이퍼 및 전극을 냉각시키는 고용량 액체 질소 하위 시스템이 포함됩니다. 이것은 정확한 온도 조절과 뛰어난 균일성을 제공합니다. 둘째, 이 장치에는 '도핑 산화물 (doped-oxide)' RF 발전기가 장착되어 있으며, 이는 정확한 제어 에치 프로세스 매개변수를 위해 플라즈마에서 균일 한 전기장을 생성합니다. 셋째, 광학 시스템에는 기판의 표적 패턴을 높은 정확도로 정렬하는 고해상도 (high-resolution) 카메라가 포함되어 있습니다. 컨셉 원 (CONCEPT ONE) 은 또한 에치 프로세스 성능을 실시간으로 측정하기 위해 온보드 도량형 도구를 자랑합니다. 여기에는 라이브 레이저 스캐너, 에지 프로파일 모니터, 결함 검출기 (defect detector) 가 포함되어 있어 etch 프로세스의 효과를 평가하고 패턴 충실도, in-die etch profile, etch rate 등과 같은 문제를 제기합니다. 또한 LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT ONE에는 일련의 모니터링 기능이 장착되어 있으며, 이 기능은 온보드 시각 및 오디오 신호를 통해 운영자에게 잠재적 인 프로세스 문제를 경고합니다. NOVELLUS CONCEPT ONE은 사용자에게 특정 회의 및 etch 응용 프로그램 요구에 맞춘 고급 턴키 (turn-key) 에치 및 리소그래피 솔루션을 제공합니다. 자동화된 프로세스 제어 소프트웨어 (Automated Process Control Software) 는 모든 매개변수를 관리하고 Etch 프로세스를 모니터링하여 최적의 실행, 향상된 수익률 및 신뢰성, 다운타임 최소화를 보장합니다. 전반적으로 LAM RESEARCH CONCEPTONE (LAM RESEARCH CONCEPT ONE) 은 다양한 에치 및 리소그래피 애플리케이션에 적합한 고급, 견고하고 신뢰할 수있는 에칭 머신입니다. 온보드 도량형 도구, 자동화된 프로세스 제어 소프트웨어, 매우 정확한 패턴, 온도 조절, 독립 척 메커니즘 (chuck mechanism) 의 배열로 인해 마이크로 리토 그래피 부문에서 고 생산성, 정밀 에치 어플리케이션을위한 이상적인 솔루션이되었습니다.
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