판매용 중고 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Vector #9261720

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Vector는 원자로 유형으로, 화학 증기 증착 (CVD) 및 원자층 증착 (ALD) 과 같은 다양한 공정 응용을 처리하도록 설계되었습니다. 이 고급 CVD/ALD 원자로는 3 구역 열 환경을 갖추고 있으며, 3 개의 난방 및 냉각판으로 프로세스 조건을 조정할 수 있습니다. NOVELLUS Concept 3 Vector는 13.56MHz 유도 결합 플라즈마 (ICP) 구성을 갖춘 저압 플라즈마 소스로 설계되었습니다. 이를 통해 균일 한 플라즈마 생성 및 낮은 초저음 방사선 (ultra-violet radiation) 을 통해 일관된 입자 크기 및 증착 조성으로 프로세스 반복성을 향상시킬 수 있습니다. LAM RESEARCH Concept 3 Vector (LAM RESEARCH Concept 3 벡터) 는 빠른 프로세스 챔버 대피를 가능하게하여 프로세스 사이클에 소요되는 시간을 줄이고 필름의 거칠기를 줄입니다. 또한, Concept 3 Vector는 우수한 반응 가스 분포 시스템을 가지고 있으며, 균일 한 반응 가스 운송을 통해 우수한 품질의 필름을 제공합니다. LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Vector는 초저산화 시스템으로도 설계되었습니다. 산화물 감소 성능 및 낮은 소유 비용으로 트리플 레이어 코일을 사용합니다. 또한 NOVELLUS Concept 3 Vector는 고급 열전 모듈로 설계되어 빠른 목표 온도 영역을 보장하며, 온도와 일치하여 반복 성과 정확성을 제공합니다. LAM RESEARCH Concept 3 Vector의 PLC (programmable logic controller) 는 고성능 프로세스 제어를 제공하여 정확하고 반복 가능한 프로세스 레시피를 제공합니다. 탁월한 디자인은 Concept 3 Vector를 태양 광 태양 전지, 박막 트랜지스터, 게이트 이완과 같은 재료 처리에 이상적인 옵션으로 만듭니다. LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Vector는 뛰어난 필름 균일성을 제공하며 여전히 빠른 처리 시간과 뛰어난 프로세스 반복성을 제공합니다. 혁신적인 디자인으로 초고밀도 메모리, MEMS (micro-electromechanical system) 파운드리 및 BiCMOS 웨이퍼에 적합한 옵션입니다. NOVELLUS Concept 3 Vector는 탁월한 기능을 통해 향상된 장치 성능과 향상된 생산 수율을 제공합니다. 결과적으로 최종 사용자의 이점은 LAM RESEARCH Concept 3 Vector를 다양한 제작 프로세스에 효과적인 원자로 만듭니다.