판매용 중고 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293650146

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Altus Max는 프로세스 엔지니어가 고급 장치 제조에 필요한 고품질 결과를 달성하도록 설계된 ALD (Atomic Layer Deposition) 도구입니다. Altus Max 도구는 혁신적인 설계와 완벽한 자동화 기능으로 인해 높은 생산성과 낮은 TCO (소유 비용) 를 제공하도록 설계되었습니다. Altus Max는 진공 및 증착 드라이버를 포함하는 공정 챔버입니다. 챔버에는 최대 2 개의 원자로가 있으며, 여러 개의 챔버를 동시에 실행할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 완전한 로봇 자동화 (robot automation) 를 통해 생산 주기를 중단하지 않고 챔버, 웨이퍼, 컴포넌트를 모듈식으로 교환 할 수 있습니다. Altus Max 시스템의 주요 기능은 ALD를 사용하여 고품질 박막 입금 기능입니다. 이 정교한 과정에는 웨이퍼 표면에 2 개의 개별 전구체의 순차 계층이 포함됩니다. 전구체는 자체 조립 단층 (SAM) 또는 기화 된 기화 전구체 일 수있다. 이 도구를 위해 개발된 소프트웨어는 레이어 단위의 정확성과 반복 가능한 프로세스 성능을 제공합니다. 알투스 맥스 (Altus Max) 가 사용하는 ALD 프로세스는 매우 다재다능하며 고급 패키징 (advanced packaging), 메모리 장치 (MEMS) 구성 요소 및 MEMS 구성 요소와 같은 다양한 애플리케이션의 기술 요구를 충족하도록 조정할 수 있습니다. 공구 범위가 30 ~ 1000 웨이퍼/시간 (wafer/hour) 이면 생산량을 쉽게 늘릴 수 있습니다. 알투스 맥스 (Altus Max) 는 신뢰할 수있는 도구이며, 신뢰할 수있는 프로세스 결과에 대한 검증된 기록을 가지고 있습니다. 이 소프트웨어는 사용자에게 친숙한 인터페이스 (interface) 와 전체 보고 (full reporting) 기능을 갖추고 있으며, 모든 구성요소는 유지 보수를 최소화하면서 수명 연장 (extended lifetime) 을 위해 설계되어 대용량 운영 환경에서도 낮은 TCO (총 소유 비용) 를 제공합니다. 알투스 맥스 (Altus Max) 는 노벨 러스 (NOVELLUS) 라인업에서 강력하고 신뢰할 수 있는 툴로, 연구 및 생산 응용 프로그램을 위해 고품질의 결과와 반복 가능한 프로세스 성능을 보장하도록 설계되었습니다. EMC VTL (Virtual Tape Environment) 은 진정한 ROI (투자 수익) 를 통해 고급 디바이스를 제조할 수 있는 안정적이고 경제적인 방법을 제공합니다.