판매용 중고 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9270871

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus는 박막 증착에 사용되는 고급 원자로입니다. 이 제품은 정확하고, 고성능 박막 증착 (Thin Film Deposition) 프로세스를 위해 설계되었으며, 뛰어난 프로세스 안정성과 반복성을 제공합니다. 이 유형의 원자로는 수십 개의 옹스트롬 (angstrom) 에서 수백 개의 옹스트롬 (angstrom) 에 이르는 두께를 가진 필름을 매장하여 광범위한 고급 응용 분야를 위해 설계되었습니다. NOVELLUS Altus 원자로는 Advanced, Repeatable Chamber 기술을 나타내는 ARC 기술을 사용합니다. 이 기술은 챔버 내의 화학 환경을 최적화하여 반복 가능하고 균일 한 결과를 제공합니다. 여기에는 다중 구역 온도 조절, 저압 전구체, 가스 증착 플럭스의 균일 한 분포와 같은 기능이 포함되어 있으며, 플라즈마 보조 화학 증기 증착 (PECVD라고도 함) 에 이상적인 환경을 만듭니다. LAM 리서치 알투스 (LAM RESEARCH Altus) 원자로를 사용하는 주요 장점은 증착 과정의 정확성과 필름 품질과 두께 측면에서 일관된 결과입니다. 이 원자로는 또한 고급 데이터 획득 시스템 (High-End Data Acquisition System) 을 갖추고 있으며, 압력, 온도, 가스 구성, 증착 속도 등 프로세스 매개 변수를 실시간으로 모니터링할 수 있는 옵션을 제공하여 사용자에게 프로세스를 최적화할 수 있습니다. 알투스 (Altus) 원자로는 다양한 산업과 응용 분야에서 사용할 수있는 다목적 도구입니다. 정확성과 반복성은 전자, 에너지, 의료 산업에 이상적입니다. 여기서 정확한 박막 증착은 중요합니다. 다른 응용 분야로는 MEMS, 에너지 수확 및 웨어러블이 있습니다. LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus 원자로는 신뢰할 수 있고 비용 효율적인 도구로, 많은 응용 분야에서 사용되었습니다. 정밀하고 반복 가능한 결과는 전자 제품 (electronics) 에서 의료 (medical), 에너지 (energy) 등 여러 산업에서 사용되었습니다. 견고한 디자인과 안정적인 성능을 통해 고급 박막 증착 (Thin-Film Deposition) 프로세스를 위한 탁월한 선택이 가능합니다.