판매용 중고 LAM RESEARCH / NOVELLUS 15-263432-00 #293810344
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ID: 293810344
Electro-Chemical Plating (ECP) clamshell assembly
P/N: 15-263432-00
Missing cup
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LAM RESEARCH/NOVELLUS 15-263432-00 원자로는 고급 마이크로 칩 생산에 필수적인 증착 및 에칭 공정에 사용되는 반도체 제조 산업에 사용되는 중요한 구성 요소입니다. 공정 제어 및 효율성이 뛰어난 대용량 (high-volume) 생산을 지원하도록 특별히 설계된 이 원자로는 제어된 환경에서 정확한 재료 증착 및 제거를 위한 최첨단 (state-of-the-art) 기술을 제공합니다. 원자로 (reactor) 는 PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 및 에칭 기술을 사용하여 정밀도 및 균일성이 높은 실리콘 웨이퍼에 박막을 만드는 정교한 자동화 시스템입니다. 원자 수준의 증착 (deposition) 과 식각 (etching) 과정을 신중하게 제어함으로써 원자로는 집적회로 (integrated circuits) 와 다른 반도체 장치의 기초를 형성하는 복잡한 패턴과 구조를 만들 수 있습니다. 노벨 러스 (NOVELLUS) 원자로의 주요 특징 중 하나는 고급 공정 제어 기능으로, 온도, 압력, 가스 흐름 속도 및 기타 매개변수를 정확하게 조작하여 원하는 필름 특성을 달성 할 수 있습니다. 이 제어 수준 (level of control) 은 증착된 필름의 품질과 안정성을 보장하는 데 필수적이며, 이는 반도체 장치가 제대로 작동하려면 엄격한 성능 사양을 충족시켜야 합니다. 원자로에는 다양한 센서, 모니터, 피드백 (feedback) 메커니즘이 장착되어 있어 프로세스 조건을 실시간으로 지속적으로 모니터링하고 조정하여 최적의 성능을 유지합니다. 이 고급 제어 시스템 (Advanced Control System) 은 필름 두께, 컴포지션 및 기타 속성의 변화를 최소화하므로 많은 수의 웨이퍼에서 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 원자로는 증착 기능 외에도 에칭 (etching) 기능을 갖추고 있어 웨이퍼 (wafer) 표면에서 재료를 선택적으로 제거 할 수 있습니다. 이것은 최종 반도체 소자의 기능을 정의하는 복잡한 패턴 (pattern) 과 구조 (structure) 를 만드는 데 필수적입니다. 원자로의 에칭 공정 (etching process) 은 매우 정확하고 선택적이며, 주변 물질에 대한 최소한의 손상을 보장하고 장치의 무결성을 유지합니다. LAM 리서치 원자로 (LAM RESEARCH Reactor) 는 처리량이 높아, 대규모 웨이퍼를 신속하게 처리하여 최신 반도체 제작 설비의 까다로운 생산 일정을 충족시킬 수 있도록 설계되었습니다. 효율적인 설계는 주기 시간을 최소화하고 수율을 최대화하여 제조업체가 엄격한 마감일과 비용 목표를 달성하도록 돕습니다 (영문). 전반적으로 NOVELLUS 15-263432-00 원자로는 고급 기술, 정확한 제어, 높은 처리량을 결합하여 고성능 마이크로칩 (microchip) 을 생산하는 최첨단 도구입니다. 이 원자로는 전자공학· 통신업계 혁신을 주도하고 있는 차세대 반도체 (반도체) 기기 개발에 중요한 역할을 하고 있다. 이른바 "에칭 (etching) '이다.
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