판매용 중고 LAM RESEARCH DSM 9800 #293830270

LAM RESEARCH DSM 9800은 반도체 제조 공정을 위해 설계된 고급 플라즈마 에치 원자로입니다. DSM 9800 은 업계 최고의 툴로서, 에칭 애플리케이션에서 높은 수준의 정밀도, 균일성, 생산성을 제공합니다. 이 원자로는 혁신적인 디자인과 최첨단 (state-of-the-art) 기술을 통해 최신 반도체 제작 프로세스의 까다로운 요구 사항을 충족할 수 있습니다. LAM RESEARCH DSM 9800 핵심에는 플라즈마 처리 챔버 (Plasma Processing Chamber) 가 있으며, 이는 탁월한 성능 및 프로세스 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 이 챔버 (chamber) 는 기판 표면에 걸쳐 효율적인 플라즈마 생성 및 균일 한 분포를 가능하게하는 독특한 구성을 특징으로합니다. 이 설계는 높은 선택성, 낮은 손상, 뛰어난 균일성을 통해 일관된 에칭 결과를 보장하며, 엄격한 프로세스 허용치 (process tolerance) 와 높은 장치 생산량을 달성하는 데 매우 중요합니다. DSM 9800 (DSM 9800) 의 주요 기능 중 하나는 높은 화면 비율 (Aspect Ratio) 식각 기능으로, 반도체 웨이퍼에서 깊고 좁은 기능을 정확하게 패턴화할 수 있습니다. 이것은 고급 프로세스 제어 알고리즘, 동적 엔드 포인트 감지 (dynamic endpoint detection) 및 고급 가스 흐름 관리 (advanced gas flow management) 를 통해 달성되며, 이를 통해 원자로가 마스크 패턴에 대한 높은 충실도로 심하고 이방성 에칭을 달성 할 수 있습니다. LAM RESEARCH DSM 9800은 높은 화면 비율의 에칭 (etching) 뿐만 아니라 반도체 제조에서 다양한 에칭 요구 사항을 지원하는 광범위한 프로세스 기능을 제공합니다. 원자로에는 여러 개의 가스 채널, RF 전원 공급 장치 및 온도 조절 시스템이 장착되어 있으며, 실리콘, 이산화규소, 질화실리콘, 다양한 금속 등 다양한 물질을 처리 할 수 있습니다. 원자로 (reactor) 는 또한 에칭 공정의 실시간 모니터링 및 제어가 가능한 정교한 엔드 포인트 감지 시스템을 특징으로합니다. 이를 통해 에치 깊이, 균일성, 선택성을 정확하게 제어하고, 기판 손상을 최소화하고, 높은 공정 반복성을 보장합니다. 또한 DSM 9800 은 높은 처리 성능, 자동화된 프로세스 제어, 강력한 하드웨어 구성요소, 생산성, 신뢰성을 고려하여 설계되었습니다. 이를 통해 반도체 제조업체는 높은 공정 수율을 달성하고, 주기 시간을 줄이고, 전반적인 제조 효율성을 향상시킬 수 있습니다. 원자로 (reactor) 는 또한 레시피 최적화, 원격 모니터링, 데이터 분석을 통해 지속적인 프로세스 개선을 가능하게 하는 고급 프로세스 제어 소프트웨어와 호환됩니다. 이 소프트웨어는 FAB (Fab-wide Manufacturing) 실행 시스템과 통합하여 원활한 데이터 전송 및 프로세스 통합, 반도체 제조 생산성 향상 등의 효과를 제공합니다. 전반적으로 LAM RESEARCH DSM 9800은 최첨단 플라즈마 에치 (etch) 원자로로 반도체 제조업체에 고급 반도체 제조 공정을 위한 강력한 도구를 제공합니다. DSM 9800 은 정확성, 균일성, 생산성 측면에서 높은 성능과 안정성을 자랑하는 차세대 반도체 (semiconductor) 장치 제조를 위한 핵심 요소입니다.