판매용 중고 LAM RESEARCH Altus Max #293625737

LAM RESEARCH Altus Max는 광범위한 과학 및 산업 응용을 지원하기 위해 설계된 고급적이고 신뢰할 수있는 유도 결합 플라즈마 (ICP) 원자로 장비입니다. 고급 기술과 맞춤형 옵션을 특징으로하며, 에칭, 증착, 박막 성장, 수동화, 광학 박막 증착, 화학 증발 등 다양한 프로세스에 사용할 수 있습니다. Altus Max는 ICP 원자로의 혁명적이고 필수 구성 요소 인 eChamber ™ 를 갖추고 있습니다. 이 특허를 획득한 설계를 통해 사용자는 3 개의 균일 한 전원 곡선 중 하나를 선택할 수 있으며, 이를 통해 플라즈마 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 높은 전력 수준에서도 공정의 전기적 분리가 우수하며, 원하는 플라즈마 매개변수의 부드럽고 안정적인 유지 보수를 위해 입증 된 가스 흐름 설계 (gas flow design) 를 갖추고 있습니다. 많은 수의 프로세스 가스 (process gase) 를 사용할 수 있으므로 모든 애플리케이션의 요구 사항에 맞게 프로세스를 손쉽게 구성할 수 있습니다. LAM RESEARCH Altus Max에는 독특한 가스 분사 시스템도 포함되어 있습니다. 특허를 획득한 이 설계를 통해 단일 실행에서 여러 가스를 동시에 제어할 수 있으며, 처리량을 최적화하면서 플라즈마 매개변수를 정확하게 튜닝 (tuning) 할 수 있습니다. 혈장의 정확한 변조를 보장하기 위해 압력 조절도 제공됩니다. Altus Max에는 고급 모니터 및 제어 기능이 장착되어 있습니다. 터치스크린 디스플레이는 모든 프로세스 매개변수에 쉽게 액세스할 수 있는 반면, 통합된 데이터 로깅 (data logging) 및 레시피 (recipe) 관리 소프트웨어는 프로세스 설정과 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 장치에는 가스 분석기 (Gas Analyzer) 및 질량 분석기 (Mass Spectrometer) 기능도 포함되어 있어 프로세스 환경을 정확하게 제어하고 분석할 수 있습니다. LAM RESEARCH Altus Max는 유연하고 신뢰할 수있는 고급 ICP 원자로 기계입니다. 특허를받은 eChamber ™ 및 Gas Injection 시스템을 통해 정확하고 반복 가능한 프로세스 제어를 원하는 과학자 및 엔지니어에게 다양한 옵션을 제공합니다. 내장형 모니터와 제어 기능, 다양한 가스 (gas) 옵션을 통해 가장 어려운 어플리케이션까지 손쉽게 처리할 수 있습니다.