판매용 중고 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #194411

APPLIED MATERIALS Endura 5500은 APPLIED MATERIALS, Inc.에서 개발 한 고급 반도체 원자로입니다. Endura 5500은 다양한 반도체 프로세스 기술에 높은 효율성, 정확성, 견고성을 제공하는 광범위한 기능을 제공합니다. 또한 업계 최고의 성능과 확장성을 제공하여 점점 더 복잡해지고 빠르게 변화하는 반도체 (semiconductor) 프로세스의 요구를 충족할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500은 고성능 프로세서로, 프런트엔드 및 백엔드 반도체 제작 프로세스에 매우 효과적입니다. 2 개의 독립적 인 소스 보드를 갖추고 있으며, 업스트림 (upstream) 및 다운스트림 (downstream) 프로세스 제어 애플리케이션에 선형 또는 펄스 (pulsed) 전원을 사용할 수 있는 유연성을 제공합니다. 또한 Endura 5500에는 두 개의 빠르고 강력한 분산 프로세서 (Distributed Processor) 가 있어 강력한 데이터 스트림을 처리하고 복잡한 프로세스 시퀀스를 실행할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500의 주요 기능 중 하나는 환경 모니터링 및 제어 기능입니다. 이 시스템은 통합 온라인 센서 어레이 (Online Sensor Array) 와 환경 제어 (Environmental Control) 를 통해 프로세스 온도, 가스 흐름, 압력, 습도 및 기타 관련 매개변수를 정확하고 안정적으로 측정할 수 있습니다. 센서 어레이는 실시간 모니터링 및 프로세스 최적화 (process optimization) 를 제공하는 반면, 환경 제어는 반복 가능한 결과를 보장합니다. 또한, Endura 5500은 다양한 일반적으로 사용되는 프로세스에 맞게 사전 구성된 다양한 프로세스 챔버 (process chamber) 를 제공합니다. 즉, 통합 작업을 간소화하고 모든 구성요소를 특정 애플리케이션에 맞게 최적화하는 한편, 범용 (Universal) 테이블탑 플랫폼은 표준 (Standard) 툴링과 손쉽게 통합할 수 있도록 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500에는 웨이퍼 처리 및 처리를 위해 여러 개의 통합 챔버가 있으며, 이는 웨이퍼 운송을 단순화하고 균일 한 결과를 산출합니다. 용매 처리 챔버 (solvent-processing chamber) 를 사용하면 웨이퍼를 처리하기 전에 화학 물질을 처리하여 전체 프로세스를 더욱 향상시킬 수 있습니다. Endura 5500에는 통합 안전 모니터 (Safety Monitor) 와 웨이퍼 처리 장치 (Wafer-Handling Unit) 가 장착되어 있어 안전 기능이 향상되고 웨이퍼 처리에 대한 정확성과 반복성이 향상되었습니다. 요약하면, APPLIED MATERIALS Endura 5500은 강력하고 기능이 풍부한 반도체 처리 시스템입니다. 2 개의 독립적 인 소스 보드, 다중 분산 프로세서, 정밀하고 정확한 프로세스 모니터링을 위한 통합 온라인 센서 어레이 (Online Sensor Array), 향상된 정확성과 반복성을 위한 통합 안전 모니터 (Integrated Safety Monitor) 및 웨이퍼 처리 장치 (Wafer-Handling Unit) 를 갖추고 있습니다. 이 모든 기능을 통해 Endura 5500은 오늘날의 반도체 프로세스 기술의 엄격한 요구를 충족시킬 수 있습니다.