판매용 중고 APPLIED MATERIALS Centura 5200 #174265

APPLIED MATERIALS Centura 5200은 사용자에게 광범위한 이점을 제공하는 고급 트랜지스터 레벨 플라즈마 에치 (etch) 장비입니다. 이 장치는 초현대형 반도체 칩 및 부품의 제조, 포장, 테스트를 위한 특수 도구입니다. 안정적이고 효율적이며 비용 효율적인 에칭 솔루션입니다. Centura 5200은 강력한 단일 웨이퍼 유도 결합 플라즈마 소스를 특징으로합니다. 이 소스는 고온에서 매우 많은 양의 이온화 된 하이드로 늄 이온 (hydronium ion) 을 생성 할 수 있으며, 때로는 5 나노 초의 낮은 에치 속도를 가능하게한다. 이 과정 에서는 고주파 동력 과 반응성 물질 (보통 "가스 ') 을 사용 하여" 실리콘' 표면 을 산화 시켜 작은 "트렌치 '와" 터널' 을 만든다. APPLIED MATERIALS Centura 5200은 업계 표준의 MVD (Multi-View Design) 를 준수하여 사용자에게 탁월한 정확도와 정확성을 제공합니다. 또한 병렬 센서 (parallel-sensor) 기술을 사용하여 기판을 더 잘 볼 수 있으므로 프로세스 수율을 제한할 수 있는 모든 약점을 신속하게 감지할 수 있습니다. Centura 5200은 완전 자동화 에칭 시스템입니다. 제품 오염의 위험을 최소화하기 위해 장치 설계 (Design and Construction) 를 조정했습니다. 고급 실리콘 웹 클리닝 머신과 자동화된 엔드 이펙터 (End-effector) 로딩 및 언로딩 (Unloading) 과 같은 기능을 통해 고품질의 오염 없는 (contamination-free) 제품을 위한 최소한의 수작업 만을 보장할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200은 뛰어난 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. 고정밀 PFI (Portable Film Implant) 도구는 증발 물질이 일관되게 분산되고 균일하여 프로세스 제어를 높이고 최적화를 실현하는 데 도움이됩니다. 또한, 통합 이온 게이트를 사용하면 프로세스 유연성을 빠르고 쉽게 향상시킬 수 있습니다. Centura 5200은 사용자에게 탁월한 이점을 제공하는 완전한 기능을 갖춘 에칭 자산입니다. 이 장치는 기존 운영 라인에 쉽게 통합되며, 효율적이고 비용 효율적인 etch 솔루션을 제공합니다. 안정적이고 정확한 설계, 고급 자동화 (Advanced Automation), 탁월한 프로세스 제어를 통해 오늘날 시장에서 최고의 에칭 솔루션 중 하나입니다.