판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima #9298247

AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima Reactor는 반도체 제조 공정에 사용되는 실리콘 기반 기질의 유전체 에칭을위한 차세대 도구입니다. AMAT 울티마 (AMAT Ultima) 는 강력한 고출력 플라즈마 에칭 원자로로, 추가 화학 물질이 필요하지 않고도 대형 웨이퍼와 효과적으로 재료를 처리 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Ultima Reactor의 첨단 기술은 ech unifority, 향상된 처리량 및 Sub-micron 및 ULSI (Ultra-Large Integration) 프로세스의 에칭을 위한 탁월한 프로세스 제어를 제공합니다. 울티마 (Ultima) 원자로는 3 개의 독립형 받침대 플랫폼을 기반으로하며, 각각 자체 공정 챔버가있는 3 개의 다른 작업 스테이션을 지원합니다. 온보드 컴퓨터 시스템은 프로세스 매개변수를 제어하고 환경 조건 (예: 온도, 압력, 대기 매개변수) 을 모니터링하는 데 사용됩니다. 고급 기능에는 강력한 진공 시스템, 다양한 플라즈마 소스, 가스 처리 기능이 포함됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima의 플라즈마 소스는 최대 4500 ° C의 온도에서 플라즈마를 생성 할 수 있으며, 초저전력 기술은 최소 이온 폭격과 높은 선택성으로 높은 에치 속도를 유지할 수 있습니다. 이는 고품질 결과와 함께 더 높은 수율을 보장합니다. AMAT 울티마 (Ultima) 원자로는 또한 온보드 ECR 및 유도 결합 플라즈마 소스와 함께 마스킹 및 플라스틱 증착과 산화물 층 아래의 서브 레이어의 산화 제어를 할 수있다. 온보드 컴퓨터 시스템은 다양한 정교한 기능 (예: 실시간 프로세스 모니터링, 자동 레시피 로딩 및 매개변수 튜닝, 고급 장애 진단/진단 소프트웨어) 을 통합합니다. 또한 데이터 로깅 및 분석 (analysis) 기능을 통해 사용자는 즉각적인 결과를 액세스할 수 있고 귀중한 시간을 절약할 수 있습니다. 응용 재료 울티마 (APPLIED MATERIALS Ultima) 는 뛰어난 선택성과 균일성을 가진 다양한 재료를 처리 할 수 있으며, 실리콘 기반 기판의 유전체 에칭에 이상적인 선택입니다. 또한 Ultima 원자로는 비용 효율적이고 에너지 효율적이며, 전력 소비량이 12.52kW로 24/7 생산에 적합합니다. 또한 in-situ plasma source clean 기능을 통해 친환경적으로 안전한 작동을 보장하며, 이를 통해 유해 화학 물질이 필요하지 않습니다. 전반적으로, AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima 원자로는 반도체 산업에서 사용되는 실리콘 기반 기판의 유전체 에칭을위한 고급, 고가용성 도구입니다. Sub-micron 및 ultra-LARGE SCALE INTEGRATION 기술을 위한 탁월한 균일성, 높은 처리량, 프로세스 제어를 제공하여 업계 어플리케이션에 이상적인 솔루션입니다.