판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #293604378
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판매
ID: 293604378
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
System, 12"
Front interface
Light curtain
Type: 5.3 FI
YASKAWA LM Track robot with edge grip
Wafer pass and storage: 2 Slot
Wafer alignment system
Centura AP Mainframe
Transfer chamber LID: Clear
LCF
Chamber A:
Gas ring: 30-Port
NORCAL Gate valve
SHIMADZU TMP-H3603 LMC-A1 Turbo pump
MKS AX7670-16
IR Diagnostic (EPD)
Standard upper chamber
Chamber B:
Gas ring: 30-Port
NORCAL Gate valve
EDWARDS STP-XH3203P Turbo pump
MKS AX7670-16
Standard upper chamber
TTV (Old type)
Chamber D:
Gas ring: 30-Port
NORCAL Gate valve
EDWARDS STP-XH3203P Turbo pump
Standard upper chamber
Chamber A, B, D:
Top / Side / Bias
SPECTRUM 11002 / SPECTRUM 11002 / SPECTRUM B-10513
Gas panel exhaust: Bottom
MFC Type: 8165C Multiflo
VERIFLO Valves
MILLIPORE Filters
NTU Power rack
Missing parts:
FI Robot paddle
RPC
Turbo throttle valve assembly
Channel boards
ESC
Power supply: 208 V, 320 A, 240 A
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima X는 반도체 제작 과정에서 기판에 유전체 및 금속의 얇은 필름을 입금하도록 설계된 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 원자로입니다. 기판 처리 (substrate handling) 를 최소화함으로써 생산 처리량을 높이고 생산량을 늘리는 일괄 처리 장비입니다. AMAT Ultima X는 다양한 공정 가스, 액체 및 고체 전구체를 사용하여 다양한 박막 재료를 배치합니다. 균일 한 강착률과 정확한 온도 조절은 고품질 집적회로 제조에 중요합니다. 시스템에는 원자로 챔버와 플라즈마 소스 챔버의 두 가지 구성 요소가 있습니다. 응용 재료 Ultima X 원자로 챔버는 원통형이며 알루미늄 합금으로 만들어졌습니다. 그것 은 "서셉터 ', 즉" 턴테이블' 에 장착 된 가열 된 "척 '을 함유 하고 있는데, 그 기판 은 단위 의 온도 를 일정하게 유지 하면서 정확 하게 적재 하여 측정 할 수 있다. 혈장 소스 챔버는 챔버 위에 있으며 10-4 torr의 진공 압력에서 작동합니다. 이 에너지는 RF 에너지를 제공하는데, 이는 반응성이 높은 환경을 생성하는 데 사용되므로 서셉터 (susceptor) 에서 가스 분자의 효율적인 핵을 생성하여 박막 증착 (thin-film deposition) 을 초래한다. Ultima X는 또한 P-CVD (Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition) 및 RTP (Rapid Thermal Processing) 프로세스와 함께 사용하여 두께 범위가 1-5äm인 필름 구조를 만들 수 있습니다. 또한 어닐링 및 확산 프로세스를 수행 할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima X는 기능 외에도 뛰어난 온도, 진공 및 플라즈마 균일성을 제공합니다. 고성능 박막 증착을 제공하기 위해 제작 된 강력하고, 다목적, 경제적인 기계입니다. 이 제품은 다양한 반도체 애플리케이션에서 사용하기에 적합하며 기존 CVD 시스템에 대한 비용 효율적인 대안으로 인기를 얻고 있습니다 (영문).
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