판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Siconi #293614941

AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi Reactor는 혁신적인 플라즈마 식각로 (Plasma Etching Reactor) 로 최고의 성능 및 신뢰성을 제공합니다. 이 원자로 (Reactor) 는 강력한 다기능 공구로, 로우-k 유전체 (low-k dielectric etching) 에서 고밀도 플라스마 처리 (high-density plasma processing) 에 이르기까지 광범위한 기능을 제공합니다. 이 원자로는 반도체 산업의 고급 소재 에칭 (etching) 을 위해 설계되었으며, 0.8nm에서 10nm 사이의 두께를 가진 유전체를 에칭할 수 있습니다. AMAT 시코니 원자로 (Siconi Reactor) 는 동급 최고의 공정 제어를 특징으로하며, 실온에서 섭씨 350 도까지의 광범위한 작동 온도에서 완전한 식각 균일성을 달성 할 수 있습니다. 이 원자로는 최신 재료 과학 및 플라즈마 (Plasma) 가공 기술을 사용하여 경제적인 가격으로 고품질, 신뢰성 있는 결과를 제공합니다. 첨단 프로세스 제어 시스템 (Advanced Process Control System) 을 사용하면 수작업 없이 안정적이고, 반복 가능하며, 고품질의 결과를 얻을 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Siconi Reactor는 또한 높은 자동화 기능을 제공하여, 수작업 없이 프로세스를 프로그래밍, 실행, 모니터링할 수 있습니다. 여기에는 여러 사용자 정의 매개변수 (custom parameter) 와 레시피 (recipe) 를 생성할 수 있으며, 이 레시피는 매번 설정을 수동으로 조정할 필요 없이 다른 제품에 적용할 수 있습니다. 또한, 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 프로세스를 쉽게 설정하고 모니터링할 수 있습니다. Siconi Reactor는 Conveyor 시스템 및 ex-situ 장비와 같은 다양한 다른 시스템과 통합 될 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 제어 능력 향상, 처리량 증가, 유연성 향상 등의 효과를 얻을 수 있습니다 (영문). AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi Reactor는 ALD (Atomic Layer Deposition), CVD (Chemical Vapor Deposition) 및 PED (Plasma Enhanced Deposition) 와 같은 고급 프로세스를 위해 설계되었습니다. 전반적으로 AMAT Siconi Reactor는 동급 최고의 프로세스 기능과 안정성을 제공합니다. 고급 기능 (Advanced Features) 과 자동화된 프로세스 제어 (Automated Process Control) 는 경제적인 가격으로 반복 가능한 고품질 결과를 낳도록 설계되었습니다. 고급 (Advanced) 기능 덕분에 사용자는 최소한의 수작업을 통해 최고의 수준의 프로세스 성능을 얻을 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Siconi Reactor 사용자는 다양한 시스템과의 통합을 활용하여 프로세스 처리량과 유연성을 극대화할 수도 있습니다.