판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer #9213897
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판매
ID: 9213897
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1999
System, 8"
Process application: Silicon oxide and silicon nitride
SMIF: (4) ASYST INX 2200
Mainframe: FR BROOKS
NESLAB Steelhead1 Chiller
Mainframe pump: IPX 100
Process chamber A:
Type: Silicon oxide and silicon nitride
AE RG 2000 Generator
Chuck: Ceramic heater
Clean unit: RPS
Gas configuration:
N2 10000 SCCM
NF3 3000 SCCM
NH3 100 SCCM
NH3 1000 SCCM
SIH4 500 SCCM
N2O 500 SCCM
N2O 5000 SCCM
AR 5000 SCCM
Process chamber B:
Type: Silicon oxide and silicon nitride
AE RG 2000 Generator
Chuck: Ceramic heater
Clean unit: RPS
Gas configuration:
N2 10000 SCCM
NF3 3000 SCCM
NH3 100 SCCM
NH3 1000 SCCM
SIH4 500 SCCM
N2O 500 SCCM
N2O 5000 SCCM
AR 5000 SCCM
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer (MXTD라고도 함) 는 고급 재료 제품 제조에 사용되는 원자로 유형입니다. 다중 반응 챔버 및 정밀 프로세스 제어를 갖춘 다중 프로세스 배치 챔버 장비입니다. 이 시스템은 마이크로 일렉트로닉 장치 (microelectronic devices) 와 고급 광학 부품에 사용되는 것과 같은 모 놀리 식 (monolithic) 및 복합 재료를 생산할 수 있습니다. 챔버 (chamber) 장치는 사용자의 요구에 맞게 구성할 수 있는 여러 가지 크기의 프로세스 챔버 (process chamber) 로 구성됩니다. 각 챔버에는 전용 사전 설치 장비와 로터리 펌프, 밸브, 전원 공급 장치 등의 부품이 장착되어 있습니다. 약실 을 사용 할 때, 반응 "챔버 '는 선택 된 용액 으로 가득 차서, 그 과정 이 시작 된다. ··· 공정 이 시작 되고 압력 이 유지 되어 고품질 물질 생산 을 보장 할 때, 반응 "챔버 '내부 에 진공 이 생긴다. 일단 공정 이 시작 되면, 그 사람 은 온도, 압력, 유속 을 조정 하여 반응 을 조절 할 수 있다. 그런 다음 원하는 생성물을 얻을 때까지 반응이 진행됩니다. AMAT Producer는 균일 한 구성, 높은 순도 및 뛰어난 균질성을 보장합니다. 또한 MXTD (MXTD) 는 다양한 어플리케이션에 적합한 다양한 추가 기능을 갖추고 있습니다. 원자로에 통합된 피에조 스캐닝 머신 (piezo scanning machine) 은 낮은 수준에서도 온도, 압력 등의 프로세스 변수를 정확하게 측정 할 수 있습니다. 또한 동일한 처리 기술을 일관되게 반복하기 위해 안정적인 환경을 제공하여 MXTD (high repeatable) 를 지원합니다. 또한 MXTD 원자로에는 프로세스 데이터 (process data) 와 프로세스 제어 (process control) 에 사용할 수 있는 고급 데이터 로깅 툴이 있습니다. 이 자산을 통해 사용자는 데이터를 실시간으로 보거나, 타사 분석 소프트웨어 (Third-party analysis software) 를 사용하여 반응 프로세스를 저장하고 분석할 수 있습니다. 전반적으로, MXTD는 고품질 모놀리식 및 복합 제품을 생산할 수있는 고급, 다중 프로세스 및 범용 반응 챔버 모델입니다. 통합 프로세스 제어 시스템 (Integrated Process Control System) 은 제품의 균일성과 반복성을 보장하는 반면, 기술적으로 진보된 데이터 로깅 장비를 통해 사용자는 프로세스 데이터를 분석하고 애플리케이션에 대한 더 많은 통찰력을 얻을 수 있습니다.
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