판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer XT #9208802

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ID: 9208802
웨이퍼 크기: 12"
Dielectric etcher, 12" Mainframe type: Platform: Producer eXT MF Server type: FE: 306M FI: 306M RT: SBC Chamber type: A: (EO2) - Dielectric etch twin XT C: (EO2) - Dielectric etch twin XT Process: Oxdie FI Robot type: YASKAWA AT Robot, P/N: 0190-14738 Controller, P/N: 0190-27387 Robot type: VXP Materials: Aluminum Robot, P/N: 0010-30160 Controller, P/N: 0190-10119 / 0190-10118.
AMAT/APPLIED MATERIALS 생산자 XT 원자로는 향상된 수율, 비용 절감 및 최종 제품 신뢰성을 제공하도록 설계된 고급 플라즈마 강화 화학 증기 증착 (PECVD) 챔버입니다. PECVD 공정은 다양한 반도체 및 광전자 재료에서 얇고 균일 한 유전체 및 등각 필름 층을 생성합니다. AMAT Producer XT 챔버는 더 큰 작업 영역, 더 높은 소스 파워 및 향상된 온도 안정성으로 프로세스 기능을 향상시킵니다. APPLIED MATERIALS 생산자 XT 챔버는 공정 샤워 헤드, 구동 리프트 암 도어, 탄화수소 없는 플라즈마 소스 및 기본 진공 챔버로 구성됩니다. RF 히터는 프로세스 쇼 헤드 (showerhead) 를 강화하여 PECVD 필름 품질 및 균일성을 향상시키기 위해 증기 증착 (vapor deposition) 프로세스를 높입니다. 탄화수소가없는 플라즈마 소스는 더 넓은 범위의 필름 두께에 비해 두께 균일성이 개선 된 증착 속도 (deposition rate) 기능을 허용합니다. 기본 진공 챔버의 최대 압력은 1Torr (133Pa) 이며, 온도가 감소한 뛰어난 박막 증착이 가능합니다. 기능 측면에서, 생산자 XT 원자로는 노출 된 모든 표면에 걸쳐 우수한 웨이퍼 균일성, 1,400um/min의 빠른 정착율, 완전 자동 웨이퍼 전송 및 적재 장비를 제공합니다. 사용자 인터페이스 (user interfaces) 는 직관적으로 설계되었으며, 다양한 프로세스 요구사항을 충족할 수 있는 다양한 사용자 정의 가능 매개변수 (parameter) 설정이 있습니다. 또한 장치 생산량 및 처리량 극대화, 생산성 향상, 웨이퍼 (wafer) 당 비용 절감 등을 목표로 설계되었습니다. 프로세스의 품질과 안전을 보장하기 위해 AMAT/APPLIED MATERIALS Producer XT 원자로에는 자체 정렬 냉각기, 비상 종료 기능, 자동 프로세스 모니터링 등 다양한 안전 기능이 있습니다. 이 도구에는 효율적인 문제 해결을 위한 다양한 진단 도구가 있습니다. 결론적으로, AMAT Producer XT 원자로는 박막 레이어의 증착에서 효율성, 안전성, 품질을 향상시키기 위해 설계된 고급 PECVD 자산입니다. 다양한 기능과 커스터마이징 가능한 매개변수를 통해 반도체 (semiconductor) 와 광전자 (optoelectronic) 재료를 생산하는 데 적합합니다.
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