판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9209863

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III는 고급 반도체 장치 제조를 위해 설계된 고성능 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 도구입니다. 유전체, 금속, 질화물 및 기타 물질의 박막을 반도체 기판에 증착 할 수 있습니다. AMAT Producer III 장비는 이중 챔버 설계를 통해 고효율 다중 계층 증착 프로세스를 제공합니다. 첫 번째 챔버에는 기판 로드 록이 포함되어 있으며 챔버가 있습니다. 두 번째 챔버에는 플라즈마 챔버 (plasma chamber) 와 사용자정의 마그네트론 소스 (magnetron source) 가 포함되어 있어 레이어 두께와 균일성을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 시스템은 고수율 및 균일 한 증착을위한 프로그래밍 가능한 논리 컨트롤러에 따라 작동합니다. 높은 생산률을 자랑하며 최대 5 개의 기판으로 구성 할 수 있습니다. 이 장치는 더 높은 증착률과 균일성을 얻기 위해 2 개의 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 또는 RF 플라즈마 소스를 사용합니다. RF 소스를 사용하면 다음을 포함하여 광범위한 프로세스 매개 변수를 조정할 수 있습니다. RF 주파수, RF 전력, 바이어스 전압 및 압력. 또한, ECR 플라즈마 소스는 균일하고 부드러운 필름 구조를 유지하면서 극도로 높은 증착률을 가능하게한다. 이 기계는 또한 챔버 압력, 온도, 스트레스 제어를 모니터링하는 실시간 컨트롤러를 제공합니다. 또한 반응물 가스 농도 및 유속을 정확하게 제어 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Producer III (APPLIED MATERIALS Producer III) 은 24/7 모니터링 툴을 포함하여 안정적인 작동을 위해 다양한 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이 도구는 또한 안전한 작동을 보장하기 위해 프로그래밍 가능한 연동 에셋 (interlock asset) 을 갖추고 있으며, 온도 및 압력 센서는 프로세스 제어를 유지하는 데 도움이됩니다. 고효율 여과 모델 덕분에 오염 제어는 매우 낮게 유지됩니다. 또한, 장비를 원격으로 모니터링할 수 있으므로 사용자가 빠르고 편리하게 조정할 수 있습니다. 전체적으로, Producer III는 수많은 기능과 안전 시스템이 장착 된 매우 효율적이고 안정적인 PECVD 시스템입니다. 듀얼 챔버 디자인과 RF 및 ECR 플라즈마 소스 컨트롤 (Plasma Source Control) 덕분에 다양한 재료의 매우 균일하고 부드러운 층을 기판에 배치 할 수 있습니다. 그것 은 높은 증착율 과 훌륭 한 수율 로 인하여 "반도체 '장치 제작 에 좋은 선택 이다.