판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9091079
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ID: 9091079
SACVD System, 8"
(2) Twin chambers, RPC clean
Platform: Split
SACVD: TEOS, TEB, TEPO process SiO2, PSG, BPSG
RPC Chamber Clean: MKS ASTRON-2L
4 color signal tower: (Red-Yellow-Green-Blue)
Mainframe Seriplex BD: 0090-00475 Rev-P1
MF Interface BD: 0100-00752 Rev-003
Cassette Loader:
PRI Robot: Front End Manual Type 200mm: ATM407B-1-S Brooks Auto
PRI Robot Controller: ESC-200-OTF-110: CTL-27900
Filter Assy: MAC10ULPA 11057002
Load-Lock Chamber:
Index Motor Driver: 5-Phase UDK5128NW2
Left Loadlock: 6 Slot / 200mm
Right Loadlock: 6 Slot / 200mm
Left LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Right LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Pumping Line Pressure Gauge: EDWARD APG-L-NW15
Cassette Door Left: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Cassette Door Right: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Wafer Position Sensor: Keyence PS-55
Buffer Chamber:
VHP Robot: VHP Dual Blade Type 200mm
VHP Robot Driver: 0190-02472 Rev-001
IPX-100 Pump: missing
Purge/Vent MFC: FC-2902 5000 sccm
Pressure Gauge: 275 Mini-Convectron Granville-Phillips
Chamber A:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35652 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35653
Chamber B:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35650 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35762
VME Controller:
#1 SBC BD V452 0090-76133 Rev A
#2 Radisys BD Radisys AMAT P133 0660-01857
#3 Unused -
#4 Unused -
#5 MEI-2 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#6 Unused -
#7 MEI-1 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#8 Unused -
#9 I/O Expansion BD 0090-76040
NT Hard Disk Seagate ST34520N
CD-ROM Use
NT Floppy Disk 3.5"
Legacy Hard Disk 0190-00405
Legacy Floppy Disk 3.5" SCSI FD235HF C700-U 193077C7-00
VME P2 Distribution BD 0100-00430
Loadlock Left Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Loadlock Right Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Active Wafer Sensor Keyence PZ2-41
Latest Software Version B3512
Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III는 반도체 생산 및 구매에 사용되는 고급 생산 원자로입니다. 고급 기능으로 인해 가장 안정적이고 효율적인 생산 원자로 중 하나입니다. AMAT Producer III에는 RF 드라이브, 주파수 생성기, 고전압 전원 공급 장치, 레이저 스캐너 및 저전압 전원 공급 장치가 포함됩니다. 이러한 구성요소는 모두 함께 작동하여 운영 프로세스를 최적화하여, 반복성과 생산성을 향상시킵니다. RF 드라이브 (RF Drive) 는 광범위한 공정 단계로 높은 증착률을 가능하게 하며, 주파수 발생기 (Frequency Generator) 는 원자로에 제공되는 전압과 전력을 제어합니다. "레이저 스캐너 '는" 웨이퍼' 에 증착 되는 물질 의 양 을 조절 한다. APPLIED MATERIALS Producer III (APPLIED MATERIALS Producer III) 은 웨이퍼에 올바른 수준의 재료를 유지하기 위해 동적으로 조정되는 활성 흐름 제어 시스템을 사용하여 재료 증착에 균일성을 제공합니다. 이 시스템은 또한 증착 및 에칭 프로세스를 반복 할 수 있도록 보장합니다. 생산자 III에는 압력 모니터링 시스템 (Pressure Monitoring System) 이 포함되어 있어 프로세스 제어를 향상시키고 제품 품질을 향상시킬 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III는 또한 처리량이 많은 생산 및 고온 프로세스를 위해 설계되었습니다. 감수기는 오염을 줄이고 빠른 예열 시간을 허용하는 특별한 디자인을 가지고 있습니다. 감수기는 또한 웨이퍼에 더 큰 균일 성을 허용합니다. AMAT Producer III는 모놀리식 웨이퍼 (monolithic wafer), 화합물 반도체 (compound semiconductor) 또는 고급 재료 (advanced materials) 와 같은 모든 종류의 재료를 생산하는 데 이상적입니다. 그것 은 수소 에서 "테트라플루오라이드 '에 이르는 다양 한" 가스' 로 작동 할 수 있다. 또한 모든 유형의 반도체 (semiconductor) 제품과 호환되도록 설계되었습니다. 따라서 생산자들은 고객이 필요로 하는 모든 자료를 처리할 수 있다는 것을 알고 있습니다. APPLIED MATERIALS Producer III는 모든 업계 표준을 준수하며, 사용자에게 향상된 안정성과 일류 성능을 제공합니다. 여기에는 운영자를 보호하고, 모든 프로세스가 가능한 한 효율적인지 확인하는 포괄적인 안전 (Safety) 기능이 포함되어 있습니다. 또한 이 기능은 제조업체에 모든 생산 요구 사항을 충족시킬 수있는 기능을 제공합니다. 생산자 3 세 (Producer III) 는 신뢰성이 높고 효율적인 생산 원자로로서, 사용자에게 요구 사항을 충족할 수 있는 생산 정확성과 반복성을 제공할 것입니다. 여러 가지 재료 와 융통성 있고 다목적 인 "디자인 '을 처리 할 수 있는 능력 으로, 그것 은 모든 형태 의" 반도체' 제조업자 들 의 요구 를 충족 시킬 것 이다. 최고 수준의 성능과 신뢰성을 충족하는 생산 원자로를 찾는 경우, AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III가 이상적인 선택입니다.
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