판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #149570
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ID: 149570
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2002
CVD system, 12"
Process: BPSG
Wafer shape: SNNF
Chamber A: SACVD-TWIN
Chamber B: SACVD-TWIN
Line voltage: 200 / 208 VAC
Line frequency: 60 Hz
Phase: 3 phase
AC P/N: 0180-01905
EMO switch type: turn to release EMO
Smoke detector: no
Chamber A: BPSG
Controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Chamber set power supply: yes
Chamber set interconnect assembly: yes
GP SPX MUXADIO110: yes
GP interface BD: yes
Other controller:
WATLOW temperature controller: yes
Heater RF filter: yes
EV manifold: yes
Thermocouple: yes
5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes
Heater lift assembly:
Heater base: yes
Lead screw assembly: yes
Motor: yes
Heater lift bellows: yes
Lift pin assembly:
Lift pin assembly: yes
Lift ceramic ring: yes
Lift pin bellows: yes
Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS
Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes
Fore line assembly:
Throttle valve: yes
Isolation valve: yes
Pirani gauge: yes
Heating jackets: yes
RGA port NW25: yes
Fore lines: yes
Pressure gauge:
MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes
MKS 627A-12338, 20 torr: yes
MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes
Chamber B: BPSG
Controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Chamber set power supply: yes
Chamber set interconnect assembly: yes
GP SPX MUXADIO110: yes
GP interface BD: yes
Other controller:
WATLOW temperature controller: yes
Heater RF filter: yes
EV manifold: yes
Thermocouple: yes
5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes
Heater lift assembly:
Heater base: yes
Lead screw assembly: yes
Motor: yes
Heater lift bellows: yes
Lift pin assembly:
Lift pin assembly: yes
Lift ceramic ring: yes
Lift pin bellows: yes
Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS
Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes
Fore line assembly:
Isolation valve: yes
RGA port NW25: yes
Pressure gauge:
MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes
MKS 627A-12338, 20 torr: yes
MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes
Gas panel and pallet:
Mainframe type: Producer III 12"
Gas feed (top): yes
System cabinet exhaust (top): yes
MFC: Celerity UFC 8160 metal digital MFC's: yes
LFM:
STEC HORIBA LF-A410A-EVD 7.0: yes
STEC HORIBA LF-A410A-EVD 1.5: yes
STEC HORIBA LF-A310A-EVD 0.5: yes
Injection valve: STEC HORIBA: yes
Valve: FUJIKIN 5 RA max: yes
Filter:
MILLIPORE 5 RA: yes
MYCROLIS O3 GS line: yes
SLD (single line drop): no
SLD valve type: FUJIKIN diaphragm: yes
Veriflo 10 RA regulator: yes
MKS LDMB12PA2CC1 transducer with display: yes
Smoke detector photohelic: yes
Generic facilities / scrubber interface: yes
Facilities interlock indicator: no
Interface output (fault): yes
Display gas pallet: yes
Chamber A gas pallet: SA-BPSG
Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD
Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD
Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD
1: O3
2: O2, 30 slm
3: N2 purge
4: NF3, 5 slm
5: N2, 3 slm
6: AR, 10 slm
7:
8: N2, 30 slm
9: HE, 30 slm
10: N2 purge
Chamber B gas pallet: SA-BPSG
Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD
Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD
Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD
1: O3
2: O2, 30 slm
3: N2 purge
4: NF3, 5 slm
5: N2, 3 slm
6: AR, 10 slm
7:
8: N2, 30 slm
9: HE, 30 slm
10: N2 purge
System placement: stand alone
EV mainfold: yes
System controller:
Facilities UPS interface: yes
MF controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Maintenance switch: yes
MF DC power supply assembly: yes
VME rack:
1: SBC
15: serial / video
16, 17: HDD
19, 20: FDD
DVD: yes
FDD: yes
Load locks:
Load lock lift assembly:
Motor
Lead screw assembly
Bellows
Lid assembly:
Wafer sliding sensor
Lid cover
Fore line assembly:
Isolation valve
Fore lines
LL door assembly: VAT valve assembly
Slit valve assembly: slit valve with Kalrez seal
Transfer chamber (buffer):
Robot type: VHP dual
Wafer sensing type: wafer pocket sensor
EDWARDS IPX100 pump
Isolation valve
Pirani gauge
RGA port, NW25
Fore lines
Slit valve assembly:
Slit valve with Kalrez seal
Assembly
Signal lamp tower:
Tower locations: front and rear mounted
Lamp colors: red, amber, green blue
Number of lamps per tower: (4)
Fab interface: standard GEM interface
Factory interface:
Front end interface: 12" FI 2 load ports
Path through: yes
Robot type: NEWPORT KENSINGTON POD 1 and 2
Facility: mainframe gas lines
MF N2 regulation: regulated 80 PSI
Remote systems:
HX 300 W/C heat exchanger: yes
HX 300 chiller for ozonator: yes
System monitors:
Monitor type: VGA with light pen, through the wall
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III는 반도체 공정 연구 개발을 위해 설계된 원자로 장비입니다. AMAT Producer III는 뛰어난 프로세스 제어를 제공하면서 고품질 처리 결과를 제공합니다. 이 제품은 설치, 유지 보수가 간편하며, 사용자가 프로세스 간에 신속하게 전환할 수 있도록 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS Producer III는 다양한 기능을 제공하는 고정밀 시스템으로, 에피 택시 (epitaxy) 에서 나노 기술 (nanotechnology) 에 이르기까지 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 큰 온도 범위, 정밀 압력 제어, 다중 단계 펌핑, 실시간 데이터 획득 사용 등의 기능을 제공합니다. 이 장치는 최대 1100 ° C의 온도로 고온 강착 및 에치 처리를 제공합니다. 이것은 질화 갈륨 (GaN) 및 알루미늄 갈륨 비소 (AlGaAs) 와 같은 화합물 반도체를 생성하는 데 적합하다. 생산자 III에는 0.2nm의 정밀도로 필름 두께를 모니터링하는 쿼츠 크리스탈 마이크로 밸런스 (QCM) 가 포함되어 있습니다. 이것 은 "나노미터 '범위 에 두께 가 있는" 필름' 을 정확 하게 배치 하는 데 도움 이 된다. AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III는 또한 온도, 압력, 총 가스 흐름 (total gas flow in real time) 과 같은 프로세스 매개변수를 모니터링하는 기능을 포함하여 다양한 고급 프로세스 제어 기능을 제공합니다. 이 기계에는 각 수준의 온도를 모니터링하여 생산이 최적화되도록 하는 발열 조절기 (exthermic regulator) 가 포함되어 있습니다. 이렇게 하면 각 프로세스 사이클에서 반복 가능하고 안정적인 성능을 보장할 수 있습니다. AMAT Producer III의 열 능력은 주변 압력 건조 에칭에도 적합합니다. 여기에는 높은 온도에서 재료를 제거하는 RF 전원이 사용되므로 에치 (etch) 가 없는 정확한 에치 프로파일 및 프로파일을 사용할 수 있습니다. 이 장비는 제어 된 대기 중 (Controlled Atmosphere) 의 기능을 어닐링하고 선택적 영역 에치 처리 (Selective Area Etch Processing) 를 수행하는 등 다양한 프로세스 옵션을 제공합니다. APPLIED MATERIALS Producer III (APPLIED MATERIALS Producer III) 은 다양한 프로세스 기능을 제공하는 견고한 툴로, 사용자는 여러 증착 및 에치 시스템에 투자하지 않고도 다양한 애플리케이션을 탐색 할 수 있습니다. 리서치 (Research) 및 반도체 등급 (Semiconductor-grade) 처리 애플리케이션에 이상적이며, 높은 정확성과 반복성을 제공하며 빠른 처리 시간을 제공합니다.
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