판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9227461

AMAT/APPLIED MATERIALS 생산자 GT Reactor는 반도체 장치 제조를 위해 설계된 업계 최고의 통합 단일 웨이퍼 유도 결합 플라즈마 (ICP) 장비입니다. ICP 소스와 에퓨전 셀 (effusion cell) 을 갖춘 이 소형 원자로는 시간당 최대 80 웨이퍼의 높은 처리량과 견고하고 안정적인 장치 구조를 만들기 위한 정확한 프로세스 제어를 제공합니다. 이 시스템은 또한 독점적 인 웨이퍼 처리 기술 인 에어로 솔 제트 코터 (Aerosol Jet Coater) 를 갖추고 있으며, 이는 담요 코팅 및 에치 레이트에 대한 뛰어난 일관성과 균질성을 제공합니다. AMAT 생산자 GT ICP 소스는 최적의 프로세스 성능 및 항복 제어를 위해 설계되었으며, 웨이퍼 간의 플라즈마 균일성을 높이면서 전력 변동을 최소화하는 맞춤형 코일 (coil) 기술을 갖추고 있습니다. 이 장치에는 프로세스 정밀도 및 반복 성을 더욱 향상시키기 위해 APC (Automatic Power Control Algorithm) 도 있습니다. 또한, 소스의 고주파 변조 (high frequency modulation) 기능을 통해 플라즈마 분포를 미세하게 튜닝하여 프로세스 예측 가능성과 반복 성을 더욱 향상시킬 수 있습니다. 에어로졸 제트 코터 (Aerosol Jet Coater) 는 독점 방울 기술을 사용하여 웨이퍼 양쪽에 박막 임플란트를 균일하게 입금합니다. 이 혁신적인 기술로 최대 4m까지 정밀하고 조절 가능한 필름 두께가 가능하며, 균일성은 2% 이상입니다. 또한, 조절 가능한 영역 적용 범위 수준을 특징으로하여 필름 증착의 정확한 프로세스 제어를 가능하게합니다. APPLIED MATERIALS Producer GT 프로세서는 또한 인터페이스 저항과 접합 누출을 줄이기 위해 제어 된 요소 소스 균질성을위한 멀티 튜브 에퓨전 셀을 특징으로합니다. 기계는 또한 배기 챔버 (exhaust chamber) 를 가지고 있으며, 모든 입자를 제거하면서 최대 필름 균일성을 달성하기 위해 최적의 가스 흐름을 보장합니다. 생산자 GT 원자로는 MEMS, 나노 구조, 금속 산화물 반도체, 나노 구조 재료, 광전자 재료 등 다양한 나노 스케일 제조 응용 분야에 적합합니다. 이 툴은 모듈식 (modular) 툴 구성으로 통합되어 다양한 반도체 디바이스 구성 요구 사항을 충족하는 완벽한 프로세스 솔루션을 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS 생산자 GT 원자로는 탁월한 프로세스 제어, 풍부한 기능, 엄격한 균일성 제어 기능을 통해 최첨단 나노스케일 (Nanoscale) 장치를 제작하는 데 적합합니다.