판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9170202

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS 생산자 GT Reactor는 반도체 및 관련 산업을 위해 설계된 기술 고급 장치입니다. 이 도구는 오늘날 기술 생산에 필수적인 고급 재료 (High-Grade Material) 와 컴포넌트 (Component) 를 제조하는 데 도움이 됩니다. TheProducer GT는 공정 챔버 크기가 240mm, 깊이가 350mm 인 열 플라즈마 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 제품은 고성능 TCT (Twin Chamber Tunnel) 소스를 갖추고 있으며, 소스에서 가장 먼 지역에 비해 기판에서 가장 가까운 부분에서 열 구배없이 균일 하고 반복 가능한 재료 특성을 생산할 수 있습니다. 원자로는 Intelli-Match ™ Advanced Source Matching and Modeling 기술로 제작되어 원자로 전력 제어를 안정적으로 관리합니다. 또한 1 차 및 2 차 챔버 사이에 일치하는 자동 주파수 소스 (Automatic Frequency Source) 와 안전한 작동을 위해 임피던스 제어 장비를 제공합니다. AMAT 생산자 GT는 가스 원자 화 (gas atomization) 와 가스 구성 및 배달을 정확하게 제어하기위한 주입 (injectionportal) 을 갖춘 매우 효율적인 가스 전달 시스템을 갖추고 있습니다. 원자로는 또한 거친 진공 (rough vacuum) 에서 대기 압력 (atmospheric pressure) 에 이르기까지 조정 가능한 프로세스 챔버 압력을 특징으로하며, 전체 웨이퍼 기판에서 균일 한 공정 조건을 달성합니다. 고급 온도 제어 기능 (고급 온도 피드백 제어 장치) 과 반응 계층 증가 제어 기능 (reaction layer growth control) 이 장착되어 있습니다. 열 공정 챔버에는 강력한 온도 모니터와 명중률이 ± 2 ° C입니다. 원자로는 또한 고압 직류 (HV-DC) 소스 파워 머신을 특징으로하며, 플라즈마 섭동을 최소화하고 전자 사이클로트론 공명파를 생성하여 플라즈마 감금 및 균질성을 개선하도록 설계되었습니다. 또한 HV-DC 전원은 최대 전력 밀도 제어 및 최대 플라즈마 밀도를 제공하여 증착률이 빠릅니다. APPLIED MATERIALS 생산자 GT Reactor는 TiN, Al2O3, SiO2, PECVD 및 photoresist 제거와 같은 필름뿐만 아니라 열 산화, 확산 및 annealing과 같은 열 과정을 포함하여 광범위한 공정 화학을 실행할 수 있습니다. 또한 APPLIED MATERIALS 'Ventura® Central Platform과 함께 배치 프로세스를 실행할 수 있습니다. 이 툴에는 강력한 소프트웨어 제품군 (Software Suite) 이 장착되어 있어 생산성을 높이고 향상된 진단 기능을 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS PreQual 소프트웨어 제품군과 통합되어 있어 빠르고 효율적인 프로세스 개발 및 고품질 필름 제작이 가능합니다. TheProducer GT 는 가장 까다로운 환경에서도 처리량 및 신뢰성을 극대화하는 초고용량 제조 (ultra-high-volume manufacturing) 를 지원하도록 설계되었습니다. 또한 위험한 환경에 대한 ISO Class 5 클린 룸 (Clean Room) 평가를 통해 위험한 지역에 설치할 수 있는 인증을 받았습니다. 신뢰할 수 있는 이 툴을 사용하면 사용자에게 뛰어난 결과를 지속적으로 얻을 수 있습니다.