판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #293627621

AMAT Producer Gold (AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT) 는 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 원자로의 한 유형입니다. 이 장비는 플라즈마를 사용하여 반도체 및 기타 전자 기판의 표면에 고품질 필름 (film) 을 배치합니다. AMAT 생산자 GT는 실리콘 알케인, 질화물, 산화물, 플루오로 카본 등 다양한 재료를 처리 할 수있는 다재다능한 PECVD 시스템입니다. 이 원자로는 기판에 대한 광활한 접근, 우수한 균일성 제어 (unifority control) 및 더 좁은 기능 프로세스 제어와 같은 기능을 제공하는 생산 등급 공정 챔버 (production-grade process chamber) 를 갖추고 있습니다. 생산 등급 챔버에는 2 개의 RF 난방원, 전자 레인지 플라즈마 소스 및 고주파 마그네트론 소스가 있습니다. 이 독특한 조합을 통해 다양한 레이어 재료에 대한 플라즈마 제어, 더 나은 균일성, 높은 증착률 (deposition rate) 을 향상시킬 수 있습니다. APPLIED MATERIALS 생산자 GT는 반복 가능하고, 안정적이며, 매우 효율적인 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 주요 특징으로는 최대 섭씨 800 도의 높은 공정 온도 (High Process Temperature) 기능과 챔버 (Chamber) 의 열 및 냉각 벽이 있습니다. 따라서 이국적인 재료를 처리하거나 하이엔드 프로세스 단계를 수행하는 경우에도 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 생산자 GT는 또한 APPLIED MATERIALS 독점 VESPER (Variable Energy Surface Plasma Enhanced Reactor) 기술을 통합하여 플라즈마 밀도, 에너지 및 분포를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한 VESPER는 사용자에게 필름 두께, 컴포지션 및 굴절률을 정확하게 제어할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT는 직경 2 인치에서 8 인치의 웨이퍼 크기를 실행할 수 있습니다. AMAT 생산자 GT에는 정확한 레이어별 프로세스 제어 장치 (layer-by-layer process control unit) 가 포함되어 있어 증착 실행의 각 레이어에 대한 매개변수와 데이터를 모니터링합니다. 이를 통해 정확하고 반복 가능한 (repeatable) 프로세스를 사용할 수 있으며, 각 실행 시 원하는 결과를 일관되게 달성할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Producer GT는 또한 건조 질소 퍼징이있는 저온 베이킹 머신을 특징으로하며, 섭씨 -25도에서 섭씨 + 200도의 표준 생산 용액 온도를 허용합니다. 결론적으로 생산자 GT는 고급 증착 공정을 위해 설계된 PECVD 원자로입니다. 이 도구에는 정확한 필름 두께 (film thickness) 및 컴포지션 제어 (composition control) 와 함께 반복 가능하고 안정적인 프로세스를 보장하는 다양한 기능이 있습니다. 에셋은 웨이퍼 (wafer) 크기의 배열을 실행할 수 있으며, 레이어별 (layer-by-layer) 프로세스 제어 모델을 통해 각 실행에 대해 정확하고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다.