판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Preclean II #293805095

AMAT/APPLIED MATERIALS Preclean II는 반도체 제조 공정에서 실리콘 웨이퍼를 정화 및 사전 컨디셔닝하도록 설계된 고성능 플라즈마 강화 화학 증기 증착 (PECVD) 원자로입니다. 이 원자로는 후속 필름 증착 전에 웨이퍼 (wafer) 표면에서 오염 및 산화물 층 (oxide layer) 을 제거하여 고급 집적 회로 (advanced integrated circuit) 및 기타 마이크로 전자 장치 제작에서 중요한 구성 요소입니다. AMAT Preclean II 원자로는 여러 개의 실리콘 웨이퍼를 동시에 수용할 수있는 배치 처리 도구 (batch processing tools) 로, 단일 런에서 대량의 웨이퍼를 효율적이고 균일하게 처리 할 수 있습니다. 반도체 업계의 까다로운 생산 요구사항을 충족시키는 한편, 일관된 프로세스 성능 (process performance) 과 제품 품질 (product quality) 을 유지하는 데 필수적인 기능입니다. 원자로 챔버 (Reactor Chamber) 는 고순도 스테인리스 스틸 (Stainless Steel) 로 제작되었으며, 웨이퍼 처리를 위해 통제 된 환경을 만들기 위해 고급 진공 및 가스 전달 시스템을 갖추고 있습니다. 공정 "가스 '는 정밀 하게 교정 된" 가스' "인젝터 '를 통하여 챔버' 에 투입 되어 배치 의 모든" 웨이퍼 '에 걸쳐 반응물 을 균일 하게 분포 시킨다. 이러한 균일성은 모든 웨이퍼에서 일관된 클리닝 및 컨디셔닝 (conditioning) 결과를 달성하는 데 필수적이며, 결국 장치 성능 및 수익률을 향상시킵니다. APPLIED MATERIALS Preclean II 원자로의 핵심은 플라즈마 소스이며, 이는 와퍼 표면에서 오염 물질과 원시 산화물 층을 쉽게 제거 할 수 있도록 반응성이 높은 플라즈마 방전을 생성합니다. 플라즈마는 공정 가스, 일반적으로 수소 (H2) 와 아르곤 (Ar) 의 혼합물의 조합에 방사성 (RF) 전력을 가하여 생성된다. "플라즈마 '내 의 활력 있는 종 들 은" 웨이퍼' 표면 과 상호 작용 하여 오염 물질 과 산화물 을 "챔버 '로부터 떨어져 나온 휘발성 부산물 로 분해 시킨다. 프리 클린 II (Preclean II) 원자로는 온도, 압력, 가스 흐름 속도 및 RF 전력 수준을 포함한 특정 웨이퍼 청소 요구 사항에 맞게 조정할 수있는 광범위한 공정 매개변수를 제공합니다. 이러한 매개변수를 최적화하여 원하는 수준의 클리닝 효율성 (cleaning efficiency) 을 달성하고 웨이퍼 (wafer) 표면의 손상을 최소화하고 높은 처리량을 유지할 수 있습니다. 또한, 원자로에 고급 웨이퍼 처리 시스템 (Advanced Wafer Handling System) 이 장착되어 처리 중 웨이퍼의 정확한 위치화 및 정렬을 보장하며, 클리닝 프로세스의 균일성과 반복성을 더욱 향상시킵니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Preclean II 원자로의 주요 특징 중 하나는 실리콘 웨이퍼에서 습식 및 건식 청소 프로세스를 모두 수행하는 것입니다. 습식 청소에는 액체 화학 용액을 사용하여 웨이퍼 표면에서 유기 및 무기 오염 물질을 제거하는 반면, 드라이 클리닝 (dry cleaning) 은 플라즈마 에칭 (plasma etching) 을 사용하여 산화물 층 및 잔기를 제거합니다. 원자로는 이러한 클리닝 모드를 원활하게 전환하도록 구성 될 수 있으며, 반도체 제조 (semiconductor manufacturing) 의 광범위한 오염 문제를 해결하는 데 있어 유연성을 극대화할 수 있습니다. 결론적으로, AMAT Preclean II 원자로는 반도체 웨이퍼 청소 및 사전 컨디셔닝을위한 최첨단 도구이며, 높은 처리량 처리, 고급 플라즈마 기술, 정확한 프로세스 제어 및 다양한 청소 기능을 제공합니다. 실리콘 웨이퍼에서 오염 물질과 산화물 층을 효과적으로 제거함으로써, APPLIED MATERIALS Preclean II 원자로는 오늘날 경쟁이 치열한 마이크로 전자 산업에서 반도체 장치의 품질, 안정성, 성능을 보장하는 데 중요한 역할을합니다.