판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Power rack for CONCEPT 2 #293754968

AMAT 전원 랙 (Power Rack) 은 컨셉트 2 (Concept 2) 플랫폼을 위해 특별히 설계된 최첨단 원자로로, 반도체 제조 공정을 위한 고급 기능과 성능을 제공합니다. 이 원자로는 반도체 업계의 까다로운 요구사항을 충족시키기 위해 설계되었으며, 증착 공정 (deposition process) 을 정확하게 제어하고 기판의 고품질 필름 증착을 보장합니다. APPLIED MATERIALS Power Rack의 핵심에는 혁신적인 설계 및 고급 기술 기능이 있습니다. 원자로에는 고출력 마이크로파 플라즈마 소스 (microwave plasma source) 가 장착되어 있는데, 이것은 기판에서 박막 증착에 필수적인 매우 활기찬 플라즈마를 생성합니다. "마이크로 '파" 플라즈마' 원 은 효율적 인 "플라즈마 '생성 을 위해 최적화 된 주파수 범위 에서 작동 하여 공정 효율성 과 생산성 을 향상 시킨다. 원자로는 또한 공정 기체의 유속 (flow rate) 을 정확하게 제어 할 수있는 정교한 가스 전달 장비를 갖추고 있습니다. 이 기능은 균일 한 필름 증착을 달성하고 증착 과정 전반에 걸쳐 프로세스 안정성을 유지하는 데 중요합니다. 가스 배달 시스템 (Gas Delivery System) 에는 정확한 가스 흐름 제어를 보장하는 질량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 가 장착되어 있어 프로세스 매개변수의 최적화 및 원하는 필름 특성 달성이 가능합니다. 또한, AMAT/APPLIED MATERIALS Power Rack에는 증착 과정에서 기판의 온도가 높아질 수있는 고온 웨이퍼 척이 장착되어 있습니다. 웨이퍼 척 (wafer chuck) 은 기판 표면에 균일 한 가열을 제공하여 일관된 필름 특성을 보장하고 필름 두께의 변형을 최소화하도록 설계되었습니다. 웨이퍼 척 (wafer chuck) 의 고온 능력은 공정 온도가 높은 고온 필름 (film) 을 포함하여 광범위한 재료를 증착 할 수 있습니다. 또한, 원자로에는 공정 매개변수의 실시간 모니터링 및 조정이 가능한 고급 제어 장치 (advanced control unit) 가 장착되어 있습니다. 제어 머신 (Control Machine) 은 사용자 친화적 인터페이스와 통합되어 운영 체제에 대한 포괄적인 뷰 (view) 를 제공하며 프로세스 조건을 빠르고 효율적으로 관리할 수 있습니다. 연산자는 가스 유량, 기판 온도, 플라즈마 전력 (plasma power) 과 같은 주요 매개변수를 조정하여 필름 증착을 최적화하고 결과의 재생성을 보장 할 수 있습니다. AMAT 전원 랙 (Power Rack) 은 처리량이 높아 여러 기판에 필름을 동시에 증착할 수 있도록 설계되었습니다. 원자로 (Reactor) 는 소형 설치 공간과 모듈식 설계로 기존 반도체 제조 시설에 쉽게 통합 할 수 있습니다. 이러한 확장성과 유연성으로 인해 원자로 (Reactor) 는 연구 개발 응용 프로그램 (Research and Development Application) 에서 대용량 제조 (High-Volume Manufacturing) 에 이르기까지 광범위한 생산 환경에 적합합니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS Power Rack은 탁월한 성능, 첨단 기술 기능, 증착 프로세스에 대한 탁월한 제어를 제공하는 최첨단 원자로입니다. 이 원자로는 고품질의 필름 증착 (film deposition) 을 달성하고 제조 공정을 최적화하려는 반도체 (semiconductor) 제조업체에 적합하다.