판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400971
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ID: 9400971
빈티지: 1995
CVD System
Generator 5000
KASHIYAMA SD60VT Dry pump
With fire extinguisher
0010-76036 Mini controller
Gas scrubber
Transformer
Chiller
(2) Dry pumps
(3) Boxes
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 복잡한 공정/화학 증기 증착 (P/CVD) 응용 프로그램을위한 완전 통합 클러스터 도구입니다. 과학 연구, 반도체 및 전자 제품 운영, 태양 전지판 제작 및 다양한 산업 환경에 사용하도록 설계되었습니다. 이 원자로는 다양한 재료에 이상적인 재료 품질 (material quality) 을 달성하기 위해 독특한 저온 공정을 가지고 있습니다. 최신 열 처리 기술로 구축 된 AMAT P-5000 클러스터 도구는 유도 결합 플라즈마 소스 (inductively-coupled plasma source) 로 알려진 진공 기술을 사용합니다. 이것 은 강렬 한 전자기 방사선 의 근원 을 제공 하는데, 이것 은 전자 와 "이온 '을" 플라즈마' 상태 로 가져오고 "프로펠란트 '형태 로 고도 의" 에너지' 화 된 입자 를 만드는 "가스 '와 결합 된다. 이것은 반응을 강화시키고, 다른 물질에서 매우 복잡한 구조를 만드는 것을 더 쉽게 만듭니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 다양한 프로세스 매개변수를 처리 할 수 있으므로 대부분의 연구 응용 프로그램 및 산업 프로세스에 적합합니다. 원자로는 매우 민감하며 온도, 압력, 기타 프로세스 변수를 정확하게 측정하고 모니터링 할 수 있습니다. 그 결과, 각 애플리케이션의 요구에 따라 미세 조정이 가능한 다양한 제어 매개변수 (control parameter) 를 제공합니다. 이것은 기판 성장 및 표면 수정에 특히 유용합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000은 다양한 응용 분야에서 완벽한 균일성을 얻을 수 있습니다. 고온저압공정 (HPC) 은 자재를 손상시키거나 인력을 해칠 위험이 최소화되면서 안전한 업무 환경을 보장한다. 이를 통해 샘플을 빠르고 정밀하게 준비 할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000은 매우 자동화되어 있으며 사용자 정의 가능성을 제공합니다. 시스템의 시간, 복잡성, 비용을 최소화하기 위해 CVD 프로세스의 여러 측면이 미리 구성되어 있습니다. 즉, 프로세스의 작동 방식과 운영 방식을 쉽게 파악할 수 있습니다. 요약하자면, AMAT P 5000은 정확하고, 반복 가능하며, 신뢰할 수있는 재료 품질 및 균일 한 증착을 제공하도록 설계된 고급 CVD 공정/화학 원자로입니다. 다양한 제어 매개변수 (control parameter) 를 통해 애플리케이션에 맞게 사용자 정의할 수 있으며, 빠른 처리 (fast processing) 를 위한 통합 솔루션을 제공합니다. 저온, 고압, 저압 프로세싱과 다양한 제어 매개변수 (control parameter) 의 조합은 다양한 산업 및 과학 프로세스에 적합합니다.
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