판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9392286

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor는 사용자가 microelectronics, data storage 및 optical 산업에서 정확한 금속 증착 매개변수를 만들 수 있도록 설계된 고성능 기기입니다. AMAT P-5000 원자로는 정확하고 균일하며 반복 가능한 증착 프로세스 제어를 제공합니다. 온도의 균일성 (unifority) 과 층의 특성이 뛰어난 통합 진공 장비를 갖추고 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor에는 교대 바이어스 전압 증착 소스가 장착되어 있습니다. 이것은 연속적인 클럭 사이클 (clock cycle) 에 대해 음전하와 양전하 사이의 증착 기판을 번갈아 가며, 이는 레이어 전체에서 짝수 필름 커버리지와 균일 한 곡물 크기를 달성하는 데 도움이됩니다. 또한, 불활성 "가스 '를 증착실 에 첨가 하여, 입자 의" 스틱' 을 줄이고, 입자 의 균일 한 분포 를 보조 함 으로써 더 큰 범위적 일관성 을 달성 한다. P-5000 원자로 (P-5000 Reactor) 의 고급 위치 제어 (Advanced Position Control) 를 통해 소스에 대한 개별 웨이퍼 또는 대상 기판을 정확하게 이동할 수 있습니다. 이를 통해 웨이퍼에 대한 균일 한 온도 분배가 가능하며 전체 웨이퍼 (wafer) 에서 고품질 증착을 보장합니다. 이 시스템은 질량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 와 PID 컨트롤러 (PID Controller) 로 설계되어 자동화된 증착 제어 및 정확한 온도 조절을 제공합니다. APPLIED MATERIALS P5000 원자로 (APPLIED MATERIALS P5000 Reactor) 는 증착 중 웨이퍼에 가해지는 열 스트레스를 최소화하기 위해 낮은 열 예산 옵션으로 설계되었습니다. 이것은 워핑과 웨이퍼의 다른 손상을 줄이는 데 도움이됩니다. AMAT P5000 원자로 (AMAT P5000 Reactor) 는 고급 제어 장치 (Advanced Control Unit) 를 사용하여 증착 과정의 복잡성을 자동화하고 줄이는 데 도움을 줍니다. P5000 원자로는 화학 증기 증착 (CVD) 및 물리적 증기 증착 (PVD) 을 포함한 다양한 증착 기술에 사용하기에 적합합니다. 또한 전체 증착 프로세스 분석, 공구 성능 추적, 개별 레이어에 대한 프로세스 레시피 분석 (analysis of process recipe for individual layers) 을 지원하는 실시간 모니터링 머신이 장착되어 있습니다. 따라서 사용자는 작업을 최적화하고, 다운타임을 줄이고, 전반적인 프로세스 제어를 향상시킬 수 있습니다. 결론적으로, P 5000 원자로는 정확한 프로세스 제어를 갖춘 고성능 기기로, 균일하고 반복 가능한 증착 과정을 생성합니다. 첨단 제어 시스템 (Advanced Control Systems) 은 증착 프로세스를 자동화 및 단순화하는 데 도움이 되며, 저열 예산 (Low Thermal Budget) 기능은 웨이퍼에 가해지는 열 스트레스를 줄이는 데 도움이됩니다. 이렇게 하면 프로세스 안정성 및 최적화 향상뿐만 아니라 고품질의 증착을 보장할 수 있습니다.