판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389533

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 200mm 저가의 빠른 열 처리 (RTP) 원자로입니다. 이 장비는 고급 반도체 장치 제작 응용 프로그램에 사용하도록 특별히 설계되었으며, IC (Integrated Circuit) 생산에 최적화되었습니다. 모든 응용 프로그램에서 일관되고 반복 가능한 처리를 보장하기 위해 정밀 온도 제어 (precision temperature control) 를 갖춘 매우 정확한 프로세스 제어 시스템을 갖추고 있습니다. 이 단위는 매우 유연하며 실리콘, 저마늄, 혼합 금속 화합물, 기타 여러 가지 물질에 사용될 수 있습니다. AMAT P-5000 원자로는 복사 가스 발사로, 온도화 장치 및 공정 컨트롤러로 구성됩니다. 방사성 가스 연사 용광로 2는 수소, 질소, 아르곤의 조합으로 가열되어, 웨이퍼 처리 중에 용광로의 온도가 지속적으로 높게 유지됩니다. 강화 장치 (tempering unit) 는 2 단계 단위로 용광로 범위의 온도 조절을 가능하게하여 정확한 프로세스 제어를 허용합니다. 프로세스 컨트롤러 (Process Controller) 는 강력한 사용자 친화적 인터페이스로, 사용자가 컴퓨터를 프로그래밍하여 다양한 응용 프로그램을 수행 할 수 있도록 합니다. 또한 APPLIED MATERIALS P 5000 은 내장된 데이터 로깅 툴로, 각 프로세스 동안 수집된 데이터를 문서화할 수 있으므로 프로세스 개발 및 애플리케이션을 지원합니다. APPLIED MATERIALS P-5000은 산화, 질화, 합금, 도핑 및 확산 프로세스를 포함한 다양한 프로세스 기능을 제공합니다. 이러한 프로세스는 트랜지스터 소스 제작, 두께가 큰 피팅, 테스트 구조 등 장치 제작에 적용 될 수 있습니다. 또한, 내장된 프로세스 제어 (process control) 자산을 통해 프로세스 반복성이 향상됩니다. 즉, 사용자가 모든 단계에서 일관된 품질을 보장하기 위해 환경 변수를 모니터링하고 수정할 수 있기 때문입니다. P5000 RTP 원자로는 매우 유연하여 실리콘, 게르마늄 및 혼합 금속 화합물에 국한되지 않지만 다양한 물질을 제조 할 수 있습니다. 이 유연성을 견고한 프로세스 제어 모델과 결합함으로써, UHP 등급 (UHP-Grade) 재료를 정확하게 처리하여 생산량 및 성능을 향상시킬 수 있습니다. 또한, 퍼니스를 배치 (batch) 또는 연속 (continuous) 모드로 실행할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 프로세스를 필요에 맞게 조정할 수 있습니다. 마지막으로, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000은 환경 친화적 인 기능으로 설계되어 있어 사용자가 환경에 미치는 영향을 최소화하면서 프로세스를 수행 할 수 있습니다.