판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389400

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 유리 또는 실리콘 웨이퍼와 같은 기판에 박막 증착을 위해 설계된 박막 원자로 장비입니다. 이 반응 챔버는 넓은 온도 범위 (-40 ~ 650 ° C) 에 걸쳐 초고속 (ultra-high) 에서 초저진공 (ultra-low-vacuum) 수준까지 다양한 증착 조건에 대한 고급 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 정밀한 열 제어를 위한 정교한 열 관리 시스템 (thermal management system) 을 갖춘 클린 룸 (clean room) 안에 위치하여 가장 까다로운 박막 처리 어플리케이션을 충족할 수 있습니다. 이 장치는 박막 (thin film) 의 성장과 관련된 여러 변수를 제어하도록 설계되었습니다. 이러한 변수에는 압력, 온도, 증착률 및 성장이 포함됩니다. AMAT P-5000 원자로는 가스 혼합 도구, 질량 흐름 컨트롤러, 커패시턴스 마노미터 및 FTIR 기계가 장착 된 초고 진공 증착실을 사용합니다. 또한 전자빔 증발기, 스퍼터 건과 같은 선형 및 회전원이 포함되어 있습니다. 또한, 챔버에는 거친 펌프, 터보 분자 펌프 (turbomolecular pump) 및 이온 펌프 (ion pump) 와 액체 질소 폐쇄 루프 칠러 (closed-loop chiller) 가 있어 얇은 필름을 재배 할 수있는 환경을 만듭니다. APPLIED MATERIALS P 5000 원자로에는 다양한 공정 (process) 기능이 장착되어 있어 다양한 박막 처리 어플리케이션에 적합합니다. 참고 사항 기능에는 자동 필름 두께 제어, 온도 매핑, 온도 프로파일링, 균일성 제어 및 실시간 프로세스 모니터링이 포함됩니다. 이러한 기능은 필름의 균일성과 스트레스를 보장하도록 구성할 수 있습니다 .\AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000의 자동화 기능은 여러 응용 프로그램에 적합합니다. 특히, 그것은 산화물, 질화물, 금속을 퇴적시키고, 필름을 에치하고, 물질의 수동화 및 절제를 수행하는 데 사용되었다. 또한, 정밀 압력 조절로 인해 마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering) 및 CVD (CVD) 와 같은 박막 증착의 비 증발 방법에 사용하기에 적합합니다. 마지막으로 APPLIED MATERIALS P5000은 고급 안전 기능을 갖춘 작동하기 쉬운 도구입니다. 가스 누출 탐지기 (gas-leak detector), 비상 폐쇄 자산 (emergency shown asset) 및 가장 엄격한 안전 규정을 준수하기 위해 운영 매개변수에 대한 엄격한 모니터링이 장착되어 있습니다.