판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9291585
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ID: 9291585
System
Chamber position: A, B, D
Downstream Plasma Apparatus (DPA)
Slit valve type: S Slit
Slit valve o-ring: Kalrez
Lamp module: Standard
Heater window: Quartz
Throttle valve: Cluster
No lamp module water flow switch
No Endpoint detector
No RGA port
Manometer:
VCR: 10T (Silane)
VCO
Process kit:
Wafer lift: Metal (Standard)
Pumping plate: 0020-30059
GDP / Blocker: 0020-30286 / 0020-34775
Gas delivery options:
Silane chamber, 8"
Pallet / Process / Flow / Cal / MFC
Position / Gas / Size / Gas / Type
1 / SiH4 / 500 cc / SiH4 / Unit 1660
2 / NH3 / 300 cc / NH3 / Unit 1660
3 / N2O / 3 slm / N2O / Unit 1660
4 / NF3 / 5 slm / CF4 / Unit 1660
5 / N2 / 10 slm / N2 / Unit 1660
RF frequency: Single.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor는 반도체 생산을 위해 특별히 설계된 최첨단 제조 장비입니다. 이것은 논리, 메모리, IC (Mixed-Signal Integrated Circuit) 와 같은 다양한 유형의 반도체 장치를 생산하는 데 사용될 수있는 강력하고 다양한 도구입니다. AMAT P-5000은 원자로 챔버, 가스 분배 시스템 및 컴퓨터 화 컨트롤러를 포함한 여러 모듈로 구성됩니다. APPLIED MATERIALS P 5000의 주요 구성 요소는 반응 과정을 수용하는 스테인리스 스틸 유닛 인 원자로 챔버 (reactor chamber) 입니다. 이 방은 다양한 온도, 압력, 가스 흐름 (gas flow) 으로 구성 될 수 있으며, 다양한 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 이 챔버 (chamber) 에는 프로세스의 실시간 모니터링 및 성능 분석이 가능한 쿼츠 창 (quartz window) 이 장착되어 있습니다. APPLIED MATERIALS P5000에는 가스 분배 장치 및 컴퓨터 컨트롤러 또한 포함되어 있습니다. 이 기계 는 가공 조건 에 관계 없이 올바른 "가스 '혼합물 을" 챔버' 에 전달 한다. 이 도구는 또한 압력, 온도, 반응 챔버 치수와 같은 매개변수의 미세 튜닝을 허용합니다. 이렇게 하면 원하는 종료 결과를 얻을 수 있습니다. 마지막으로, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000에는 저온과 고온에 대한 경보 자산, 압력 모니터링 모델 및 과압 보호 밸브를 포함한 여러 안전 기능이 포함되어 있습니다. 원자로 는 또한 "가스 '의 화학 성분 을 감시 하는" 센서' 를 장착 하여, 그 과정 이 안전 하고 효율적 임 을 확인 하는 데 도움 이 된다. 결론적으로, P5000 원자로는 반도체 장치 제조를위한 강력하고 다재다능한 도구입니다. 다양한 프로세스 (process) 의 요구 사항을 충족하도록 광범위한 기능을 구성할 수 있으므로, 원하는 최종 결과를 얻을 수 있습니다. 수많은 안전 기능도 모든 프로세스가 안전하고 효율적임을 보장합니다.
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