판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9284522

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ID: 9284522
빈티지: 1995
CVD System Process: Depo rate Oxide: 6000 A/min Uniformity: 5% (12) Gases: Gas no / Sccm / Gas 1 / 200 sccm / Sih4 2 / 100 sccm / NH3 3 / 3000 sccm / N2 4 / 2000 sccm / N20 5 / 2000 sccm / CF4 / SF6 7 / 200 sccm / Sih4 8 / 100 sccm / NH3 9 / 3000 sccm / N2 10 / 2000 sccm / N2O 11 / 2000 sccm / CF4 / SF6 AC Power Mainframe configuration: Mark Ⅱ, 6" I/O Wafer sensor (21) VME Slots Phase 3 Robot Phase 3 Cassette handler (8) Slots storage elevator Viton O-ring Clean gas box Pressure control system Throttle valve Isolation valve open / Close type Temp control: Lamp heated Vacuum system Chamber: EDWARDS QDP80+QMB500 Pump Load lock chamber: ADP80 Nitrogen Compressed air: CDA / N2 Exhaust Fuse: AC/DC Power box RF Power supply: 1.2 kw and 13.56 MHz Power supply: 208 V, 200 A, AC Input, 3 Phase, 5 Wires 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor는 종합적인 박막 증착 프로세스에 사용되는 최첨단 장비입니다. AMAT P-5000은 PVD (Physical Vapor Deposition) 기술을 사용하여 다양한 기판에 대한 고품질 등각 코팅 및 하드 코팅 요구 사항에 이상적입니다. APPLIED MATERIALS P 5000에는 2 개의 전원 공급 장치가 장착되어 있으며, 독립적 인 펄스 제어와 뛰어난 온도 균일성을 제공하는 통합 게이트 밸브가 가능합니다. AMAT P 5000에는 내장 고전압 발전기가 장착 될 수 있으며, 이를 통해 증착 공정이 특정 응용에 맞게 조정 될 수 있습니다. 또한 P-5000은 확장 챔버, 입구 펌프, 진공 펌프, 로드 락 및 포펫 밸브와 통합 될 수 있으므로 공정 재생성이 뛰어난 고품질 박막 증착이 가능합니다. AMAT P5000 Reactor는 작동하기 쉬운 사용자 친화적 제어 인터페이스와 고급 안전 프로토콜을 갖추고 있습니다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000은 고급 프로세스 제어 기능을 제공하여 강력한 자동화를 통해 완전한 프로세스 매개 변수를 설정할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P-5000 원자로는 최대 450mm의 기판을 수용 할 수 있으며, 넓은 지역에 비해 뛰어난 균일 성과 증착률을 제공합니다. P5000에는 모든 크기와 모양의 기판을 처리 할 수있는 독특한 챔버 (chamber) 디자인이 장착되어 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor는 뛰어난 품질과 프로세스 반복성을 지닌 복잡한 박막 (Thin Film) 의 빠르고 경제적인 생산에 유용한 기술입니다. 원자로 (reactor) 는 향상된 성능, 향상된 안전 및 향상된 제어가 필요한 많은 산업에 적합한 도구입니다. P 5000 은 기존의 증착 과정 (deposition process) 을 완수하고, 자동화되고, 균일하고, 빠르고, 신뢰할 수있는 증착 프로세스를 도입함으로써 다양한 기판에 대한 탁월한 필름 균일성, 접착 및 원활한 적용 범위를 제공합니다. 이 덕분 에 "코우팅 '기술 이 가장 신뢰 할 만하고 신뢰 할 만하다.
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