판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9280086
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ID: 9280086
웨이퍼 크기: 8"
Etcher, 8"
Chamber A and B: MxP Metal
Chamber D: Strip
Mark II Mainframe
29 Slots storage elevator
Helium cooling
Expanded VME
Robot: Phase III
Cassette: Phase II
AC Remote frame
Cables: Digital and analog
Emergency interlock cables
Heat exchanger: AMAT 0
RF Generators: ENI 12A and 12B
ASTEX Microwave
Options: (2) ALCATEL Dry pumps and booster pump.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 안정성이 높고 효율적인 플라즈마 기반 반도체 원자로입니다. 즉, 여러 가지 고급 기능을 사용하여 효율적인 성능을 보장하고 생산성을 극대화할 수 있습니다. AMAT P-5000은 단일 챔버 방사형 흐름 플라즈마 원자로로, 최대 확장성과 다중 영역 유연성을 위해 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS P 5000의 초기 소스 가스 구성에는 Ar-Cl2가 포함되어 있으며, 이 단일 조합에서 최대 5 개의 소스 가스를 만들 수 있습니다. 이 가변 소스는 polysilicon 증착, gate oxide 형성 및 poly-Si gate silicidation과 같은 응용 분야에 유용합니다. 5 구역 조정 가능 프로세스 매개 변수를 사용하면 etch 및 deposition 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 한편, 유전체 벽과 longLife 캡슐화 된 전극은 입자 오염을 줄이고 프로세스 균일성을 유지하는 데 도움이됩니다. AMAT P 5000에는 넓은 주파수 범위에서 매우 균일 한 플라즈마를 생성 할 수있는 플라즈마 소스 생성기 (plasma source generator) 가 포함되어 있습니다. 원자로의 강력한 전력 공급 및 제어 기능은 안정적인 성능 프로세스를 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000은 최대 16개의 200mm 웨이퍼 또는 13개의 300mm 웨이퍼를 수용하는 자동 로드/언로드 기능을 제공합니다. 온도 균일성은 발전기의 통합 냉각 모듈에 의해 보장됩니다. 고급 기능 외에도 AMAT P5000에는 여러 가지 안전 기능이 포함되어 있습니다. FM O2 모니터는 산소 수준이 사전 설정된 한계를 초과하여 잠재적 인 위험을 피하기 위해 가스 공급을 자동으로 차단합니다. 또한, 에어록 (airlock) 은 무단 액세스를 감지하면 챔버 도어를 자동으로 닫아 운영자와 운영 환경 간의 접촉을 방지합니다. 전반적으로 P-5000 플라즈마 원자로는 반도체 제조에 적합한 선택입니다. 하이엔드 에치 및 증착 프로세스를 위한 탁월한 성능, 확장성, 안전성을 제공합니다. 강력하고 효율적인 설계를 갖춘 APPLIED MATERIALS P5000은 안정적이고 비용 효율적인 결과를 원하는 모든 시설에 적합한 선택입니다.
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